特許

J-GLOBAL ID：200903025610323292

投影露光装置

発明者： 中本 裕見 ,  山賀 勝 ,  佐藤 仁 ,  高橋 一雄
出願人/特許権者： 株式会社オーク製作所
代理人 (2件)： 磯野 富彦 ,  伊藤 信和
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-083211
公開番号（公開出願番号）：特開2009-239018
出願日： 2008年03月27日
公開日（公表日）： 2009年10月15日
要約：

【課題】 基板の交換に伴う遮光体の取り外しと再設置の所要時間が短く、多様な遮光領域に対応する簡便な遮光体を有する投影露光装置を提供する。【解決手段】 投影露光装置(100)は、紫外線を含む光線をマスクに照射し投影光学系を介してそのマスクを通過した光線をネガ型フォトレジストが塗布された基板に露光する装置である。この投影露光装置は、露光光を遮光するための少なくとも2つの第1遮光体(84)と、第1遮光体を基板の外側から基板の中心に向かって移動させる第1移動部(82,83,86)と、を備え、第1遮光体を基板の中心に向かって移動させた際に、第1遮光体は基板の周辺部全域を遮光する。【選択図】図3

請求項（抜粋）：

紫外線を含む光線をマスクに照射し、投影光学系を介してそのマスクを通過した光線をネガ型フォトレジストが塗布された基板に露光する投影露光装置において、 前記露光光を遮光するための少なくとも2つの第1遮光体と、 前記第1遮光体を前記基板の外側から前記基板の中心に向かって移動させる第1移動部と、を備え、 前記第1遮光体を前記基板の中心に向かって移動させた際に、前記第1遮光体は前記基板の周辺部全域を遮光することを特徴とする投影露光装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20

FI (2件)：

H01L21/30 577 ,  G03F7/20 521

Fターム (8件)：

5F046BA03 ,  5F046CB01 ,  5F046CB06 ,  5F046CB26 ,  5F046CC01 ,  5F046CC08 ,  5F046DA01 ,  5F046DA07

引用特許：

出願人引用 (2件)

• ワークピースを機械的にマスクするための方法および装置
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2003-534991   出願人：ウルトラテックインク
• 露光方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-279828   出願人：松下電器産業株式会社

審査官引用 (3件)

• 露光装置及びデバイス製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2007-123051   出願人：エーエスエムエルネザーランズビー.ブイ.
• 半導体露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-274983   出願人：ソニー株式会社
• 半導体装置の製造方法、及びその製造装置、並びに電気光学装置の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-213932   出願人：セイコーエプソン株式会社