特許

J-GLOBAL ID：200903025621240534

超高真空システム用統合型フェイズセパレータ

発明者： コロンボ・ポール イー.
出願人/特許権者： ビーコ インスツルメンツ インコーポレーティッド
代理人 (1件)： 小山 有
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-529572
公開番号（公開出願番号）：特表2004-533910
出願日： 2001年09月21日
公開日（公表日）： 2004年11月11日
要約：

分子線エピタキシーシステム等の超高真空システムに用いられるフェイズセパレータである。真空チャンバ内には極低温パネルが配置されており、この極低温パネルには極低温シュラウド領域とフェイズセパレータ領域とが含まれている。液体窒素はインレットラインを介して極低温パネルに導入される。液体窒素の温度が上昇し、蒸発すると、窒素蒸気がシュラウド内の上部へ移動する。極低温パネルのフェイズセパレータ領域においては、略大気圧蒸気層が液体窒素の上にあり、その結果、窒素蒸気は、ガスバーストを形成することなくパネルからスムーズに排出される。また、液体窒素レベルの変化による極低温シュラウド表面の温度変化を防ぐため、フェイズセパレータ領域は真空ジャケットされ、これにより極低温シュラウドのポンプ安定性が高められる。

請求項（抜粋）：

基板上に薄膜を堆積させる超高真空システム用の統合型フェイズセパレータ装置であって、 真空チャンバと、 前記真空チャンバ内に配置される、液体窒素インプットポート及び窒素蒸気アウトレットポートを備える極低温パネルとからなり、 前記極低温パネルでは液体窒素の上に略大気圧蒸気層が形成されており、窒素蒸気は前記アウトレットポートを経てスムーズに排出されること、及び、前記極低温パネルには極低温シュラウド領域とフェイズセパレータ領域とが含まれ、極低温シュラウド領域は前記真空チャンバにおいて被膜される基板を少なくとも部分的に取り囲み、前記略大気圧蒸気層は前記フェイズセパレータ領域内に配置されることを特徴とする統合型フェイズセパレータ装置。

IPC (4件)：

B01J3/00 ,  B01J3/02 ,  C23C14/28 ,  H01L21/203

FI (4件)：

B01J3/00 J ,  B01J3/02 M ,  C23C14/28 ,  H01L21/203 M

Fターム (10件)：

4K029CA00 ,  4K029DA01 ,  4K029DA02 ,  4K029DA09 ,  4K029DC25 ,  4K029EA03 ,  4K029EA08 ,  5F103AA04 ,  5F103BB47 ,  5F103GG01

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 薄膜形成装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-215327   出願人：キヤノン株式会社
• エピタキシャル結晶成長装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-235020   出願人：三菱電機株式会社
• 分子線エピタキシー装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-208052   出願人：シャープ株式会社