特許
J-GLOBAL ID：200903025656718348

ダイポール式照明技術に関連して使用されるマスクの生成方法と生成装置

発明者：
ルイジ カボディエチ

ルイジ カボディエチ について

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ファン アンドレス トーレス ロブレス

ファン アンドレス トーレス ロブレス について

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ロデウィユク フベルトゥス ファン オス

ロデウィユク フベルトゥス ファン オス について


出願人/特許権者：
アスムル マスクツールズ ビー.ブイ.

アスムル マスクツールズ ビー.ブイ. について

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エイエスエムエル ネザランドズ ベスローテン フエンノートシャップ

エイエスエムエル ネザランドズ ベスローテン フエンノートシャップ について


代理人 (1件)： 浅村 皓 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-355959
公開番号（公開出願番号）：特開2003-162042
出願日： 2002年11月01日
公開日（公表日）： 2003年06月06日
要約：
【要約】【課題】 相互接触する形状特徴により生じる「交差」区域を補償するダイポール照明技術を使用するためのマスクレイアウト生成方法を得ること。【解決手段】 該方法は、レイアウトを構成する複数の形状特徴から水平または垂直の臨界形状特徴を同定する段階と、水平または垂直の臨界形状特徴の1つが前記レイアウトの別の形状特徴と接触する区域である相互結合区域を同定する段階と、主パラメータに基づき各相互結合区域に対するエッジ補正計画を生成する段階とを含み、次に、水平臨界形状特徴と、垂直臨界形状特徴用の第1遮蔽計画と、エッジ補正計画により補正される水平臨界形状特徴を含む相互結合区域とを編集することにより、水平マスクパターンを、次いで、垂直臨界形状特徴と、水平臨界形状特徴用の第2遮蔽計画と、エッジ補正計画により補正された垂直臨界形状特徴を含む相互結合区域とを編集することにより、垂直マスクパターンを生成する。
請求項（抜粋）：
多重露光リソグラフィ結像処理に使用する相補的マスクパターンを生成する方法において、該方法が、レイアウトを構成する複数の形状特徴から水平の臨界形状特徴を同定する段階と、前記複数形状特徴から垂直の臨界形状特徴を同定する段階とを含み、該垂直臨界形状特徴が、前記水平の臨界形状特徴に対し直角方向に延在しており、前記方法が、また、相互結合区域を同定する段階を含み、該相互結合区域が、前記水平の臨界形状特徴の1つが前記レイアウトの別の形状特徴と接触する区域、および/または前記垂直の形状特徴の1つが前記レイアウトの別の形状特徴と接触する区域を含んでおり、前記方法が、更に、前記複数の形状特徴相互の近接に基づいて1組の主パラメータを定義する段階と、前記主パラメータに基づいて各相互結合区域に対するエッジ補正計画を生成する段階と、前記主パラメータに基づいて前記水平臨界形状特徴に対する第1遮蔽計画を生成する段階と、前記主パラメータに基づいて前記垂直臨界形状特徴に対する第2遮蔽計画を生成する段階と、前記水平臨界形状特徴と、前記垂直臨界形状特徴用の第2遮蔽計画と、前記エッジ補正計画により補正された水平臨界形状特徴を内包する前記相互結合区域とを編集することにより第1マスクパターンを生成する段階と、前記垂直臨界形状特徴と、前記水平臨界形状特徴用の第1遮蔽計画と、前記エッジ補正計画により補正された垂直臨界形状特徴を内包する前記相互結合区域とを編集することで第2マスクパターンを生成する段階とが含まれる、多重露光リソグラフィ結像処理に使用する相補的マスクパターンを生成する方法。
IPC (3件)：
G03F 1/08 ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/027
FI (5件)：
G03F 1/08 A ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 502 P ,  H01L 21/30 502 C ,  H01L 21/30 514 A
Fターム (10件)：
2H095BA01 ,  2H095BB02 ,  2H095BB36 ,  5F046AA13 ,  5F046AA26 ,  5F046BA04 ,  5F046BA05 ,  5F046CA08 ,  5F046CB17 ,  5F046CB23
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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