特許
J-GLOBAL ID：200903096646195465
ターゲットとその製造方法および高屈折率膜の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
泉名 謙治
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-024420
公開番号（公開出願番号）：特開平7-233469
出願日： 1994年02月22日
公開日（公表日）： 1995年09月05日
要約：
【要約】【構成】室温での比抵抗値が10Ωcm以下であり、酸素含有量が35重量%以上であるところの主成分がTiO<SB>X</SB> (1<X<2)の酸化物焼結体スパッタリングターゲットとその製造方法および該ターゲットを用いた高屈折率膜の製造方法。【効果】本発明のターゲットを用いることにより、高屈折率の膜が高速度にしかも安定に生産できる。
請求項（抜粋）：
主成分がTiO<SB>X</SB> (1<X<2)である酸化物焼結体の製造方法において、二酸化チタン粉末を非酸化雰囲気でホットプレスして焼結することを特徴とする酸化物焼結体の製造方法。
IPC (3件)：
C23C 14/34
, C04B 35/46
, C23C 14/08
