特許
J-GLOBAL ID：200903025747508648
CVD装置および磁気記録媒体の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
,
代理人 (1件)：
岡田 数彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-025038
公開番号（公開出願番号）：特開2000-226658
出願日： 1999年02月02日
公開日（公表日）： 2000年08月15日
要約：
【要約】【課題】高い製膜速度が得られる様に改良された熱フィラメント-プラズマCVD装置を提供する。【解決手段】製膜室内で真空条件下に加熱されたフィラメント状のカソードとアノードとの間の放電により製膜原料ガスをプラズマ状態とし、そして、マイナス電位により上記のプラズマを基板)表面に加速衝突させて製膜する、熱フィラメント-プラズマCVD装置において、前記製膜室(1)内の基板(4)に対向する少なくとも一方の位置にロート状の形状を有するアノード(3)を配置して成る。
請求項（抜粋）：
製膜室内で真空条件下に加熱されたフィラメント状のカソードとアノードとの間の放電により製膜原料ガスをプラズマ状態とし、そして、マイナス電位により上記のプラズマを基板表面に加速衝突させて製膜する、熱フィラメント-プラズマCVD装置において、前記製膜室内の基板に対向する少なくとも一方の位置にロート状の形状を有するアノードを配置して成ることを特徴とする熱フィラメント-プラズマCVD装置。
IPC (3件)：
C23C 16/26
, C23C 16/503
, G11B 5/84
C23C 16/26 Z
, C23C 16/50 A
, G11B 5/84 B
4K030BA06
, 4K030BA27
, 4K030BB13
, 4K030CA02
, 4K030CA17
, 4K030FA01
, 4K030KA15
, 4K030LA05
, 5D112AA07
, 5D112BC05
, 5D112FA10
, 5D112FB18
出願人引用 (8件)
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審査官引用 (8件)
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