フォトレジスト用ベーク炉

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：稲垣清
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-161600
公開番号（公開出願番号）：特開2000-349018
出願日： 1999年06月08日
公開日（公表日）： 2000年12月15日
要約：

【要約】【課題】従来のウェハのベーク炉では、単一の温度制御装置により温度制御を行っているため、ウェハ表面に温度分布を生じさせることができず、ウェハ表面にはその位置によりベーク時の現像液のアタックに強弱があり、ベークにより得られるウェハのフォトレジストの線幅にばらつきが生じてしまう。【解決手段】ベーク炉11内のウェハ12の加熱を同心円状に配置された複数の加熱ヒーター13、14、15を使用して行う。その際に各加熱ヒーターの温度制御を専用の温度制御装置16、17、18を使用して行い、異なった温度でウェハの加熱を行う。前述の位置によるアタックの強弱とこの温度の強弱が相互に相殺されて、均一な線幅のフォトレジストを有するウェハが得られる。

請求項（抜粋）：

フォトレジストのパターン露光終了後から現像開始までの間に行われるベーク工程で用いられるフォトレジスト用ベーク炉において、複数の加熱ヒーターをウェハに近接して設置し、該加熱ヒーターを異なる温度で加熱して前記ウェハに中心部が低く周縁部が高い温度分布を生じさせて該ウェハの温度制御を行うことを特徴とするフォトレジスト用ベーク炉。

IPC (3件)：

H01L 21/027 , G03F 7/30 501 , G03F 7/38 511

FI (3件)：

H01L 21/30 567 , G03F 7/30 501 , G03F 7/38 511

Fターム (4件)：

2H096AA25 , 2H096FA01 , 2H096GB03 , 5F046KA04

引用特許：

審査官引用 (5件)

特開昭63-184330
ベーキング方法および装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-239860 出願人：株式会社日立製作所, 日立東京エレクトロニクス株式会社
基板加熱装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-214375 出願人：株式会社湯浅製作所

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