特許

J-GLOBAL ID：200903026093047570

金属用研磨液及び研磨方法

発明者： 倉田 靖 ,  上方 康雄 ,  内田 剛 ,  寺崎 裕樹 ,  五十嵐 明子
出願人/特許権者： 日立化成工業株式会社
代理人 (1件)： 若林 邦彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-322451
公開番号（公開出願番号）：特開2001-144047
出願日： 1999年11月12日
公開日（公表日）： 2001年05月25日
要約：

【要約】【課題】 下地のバリア層及び絶縁膜層との高い研磨速度比を発現し、高い面内均一性及び高平坦化を可能とし、信頼性の高い金属膜の埋め込みパタ-ン形成を可能とする金属研磨液及びそれを用いた研磨方法を提供する。【解決手段】 金属の酸化剤、酸化金属溶解剤、保護膜形成剤、水溶性ポリマ及び水を含有する研磨液であり、金属とそのバリア層の研磨速度比(金属/バリア層)が10以上であり、金属と絶縁膜層(金属/絶縁膜層)の研磨速度比が100以上である金属用研磨液を使用する。

請求項（抜粋）：

金属の酸化剤、酸化金属溶解剤、保護膜形成剤、水溶性ポリマ及び水を含有する研磨液であり、金属とそのバリア層の研磨速度比(金属/バリア層)が10以上であり、金属と絶縁膜層(金属/絶縁膜層)の研磨速度比が100以上である金属用研磨液。

IPC (2件)：

H01L 21/304 622 ,  H01L 21/304

FI (2件)：

H01L 21/304 622 C ,  H01L 21/304 622 X

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 研磨方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-276937   出願人：株式会社日立製作所
• 銅系基板に有用な化学的・機械的研磨用スラリー
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-338809   出願人：キャボットコーポレイション
• 金属膜用研磨剤および研磨方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-103294   出願人：株式会社トクヤマ