特許
J-GLOBAL ID:200903026104387963

液中プラズマ処理装置、及び液中プラズマ処理方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 渥美 久彦
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2007-245074
公開番号(公開出願番号):特開2009-072716
出願日: 2007年09月21日
公開日(公表日): 2009年04月09日
要約:
【課題】液体中でプラズマを安定的に発生させ、液体に含まれる被処理物質を効率よく処理することができる液中プラズマ処理装置を提供すること。【解決手段】液中プラズマ処理装置11は、処理水Wを導入可能な容器12と、マイクロ波発生装置14とを備える。マイクロ波発生装置14は、マイクロ波を発生するマイクロ波発生器21と、そのマイクロ波を伝搬させる導波管22とを有する。導波管22は、その先端部が容器12の内部に突出した状態で容器12の側壁に固定されている。導波管22の先端面22aには貫通穴42を有する石英板41が密接配置される。導波管22から処理水W中にマイクロ波が照射されることにより、その処理水W中に発生した気泡が石英板41の貫通穴42内に捕捉され、その気泡中に放電プラズマが発生される。【選択図】図1
請求項(抜粋):
被処理物質を含む液体を導入可能な容器と、 マイクロ波を発生するマイクロ波発生器と、前記マイクロ波を伝搬させる導波管とを有し、前記導波管の先端部から前記液体中にマイクロ波を照射して放電プラズマを誘起させるプラズマ発生手段と、 前記導波管の先端部近傍に配置され、前記マイクロ波の照射によって前記液体中に発生した気泡を捕捉するための捕捉空間を有する気泡捕捉手段と を備えたことを特徴とする液中プラズマ処理装置。
IPC (2件):
B01J 19/08 ,  C02F 1/30
FI (2件):
B01J19/08 E ,  C02F1/30
Fターム (14件):
4D037AA11 ,  4D037AB14 ,  4D037BA16 ,  4G075AA13 ,  4G075AA15 ,  4G075AA37 ,  4G075BA05 ,  4G075CA26 ,  4G075CA65 ,  4G075DA02 ,  4G075EB44 ,  4G075EC25 ,  4G075FA01 ,  4G075FB06
引用特許:
出願人引用 (1件) 審査官引用 (6件)
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