特許
J-GLOBAL ID:200903026236668139

回折光学素子とその作製方法および光学モジュール

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 本多 章悟 ,  樺山 亨
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2006-158469
公開番号(公開出願番号):特開2007-328096
出願日: 2006年06月07日
公開日(公表日): 2007年12月20日
要約:
【課題】自由度の高い設計が可能であり、かつ広い波長域で高い回折効率を有する回折光学素子を実現する。【解決手段】本発明は、表面にレリーフパターンが形成されている回折光学素子201において、前記レリーフパターン202上に、使用する波長の最小波長よりも短いピッチを有する微細周期構造203を形成し、該微細周期構造203のピッチ、幅、高さ(または深さ)などのパラメータを変えることにより微細周期構造203における有効屈折率の波長依存性を調整する。これにより、所望の複数波長あるいは波長範囲において回折効率がより高い回折光学素子201を実現することが可能となり、また、より自由に設計することが可能な回折光学素子を提供することが可能となる。【選択図】図3
請求項(抜粋):
表面にレリーフパターンが形成されている回折光学素子において、 前記レリーフパターン上に、使用する波長の最小波長よりも短いピッチを有する微細周期構造が形成されており、前記レリーフパターン部の屈折率n1および、前記微細周期構造部における有効屈折率neffが、次の式(1) を満たすことを特徴とする回折光学素子。
IPC (1件):
G02B 5/18
FI (1件):
G02B5/18
Fターム (8件):
2H049AA18 ,  2H049AA33 ,  2H049AA40 ,  2H049AA48 ,  2H049AA53 ,  2H049AA60 ,  2H049AA63 ,  2H049AA66
引用特許:
出願人引用 (4件)
  • 特許第3717555号公報
  • 特許第3547665号公報
  • 回折光学素子及びそれを有する光学系
    公報種別:公開公報   出願番号:特願2000-162572   出願人:キヤノン株式会社
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審査官引用 (3件)

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