イオンスパッタ装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：北條和由
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-087960
公開番号（公開出願番号）：特開平7-268623
出願日： 1994年03月31日
公開日（公表日）： 1995年10月17日
要約：

【要約】【目的】試料に電子衝撃による損傷を与えることなくイオンスパッタリングが行え、しかもターゲットの交換のみで簡単にイオンボンバートも行えるイオンスパッタ装置。【構成】イオンスパッタ装置は、希薄気体状態に維持される真空槽1と、この真空槽1の中に配置された試料台6と、この試料台6と対向して前記真空槽1内に配置されたターゲント電極3と、このターゲット電極3に取り付けられたターゲット2と、前記ターゲット電極3が負電位となるよう放電電圧を印加する電源8とを有する。ターゲット電極3に磁石10を取り付け、同ターゲット電極3に取り付けたターゲット2の板面に沿う方向に磁界を形成する。さらに、前記試料台6が電源8に接続された正電極13側と絶縁されている。

請求項（抜粋）：

希薄気体状態に維持される真空槽1と、この真空槽1の中に配置された試料台6と、この試料台6と対向して前記真空槽1内に配置されたターゲット電極3と、このターゲット電極3に取り付けられたターゲット2と、前記ターゲット電極3が負電位となるよう放電電圧を印加する電源8とを有するイオンスパッタ装置において、ターゲット電極3に磁石10を取り付け、同ターゲット電極3に取り付けたターゲット2の板面に沿う方向に磁界を形成すると共に、前記試料台6を電源8に接続された正電極13側と絶縁したことを特徴とするイオンスパッタ装置。

引用特許：

審査官引用 (9件)

スパツタリング方法及び装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-144288 出願人：宇部興産株式会社
特開平3-153870
特開昭57-207177

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