基板の取り扱い方法と装置、それに用いる吸着検査方法、装置

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：石原勝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-061318
公開番号（公開出願番号）：特開平11-260897
出願日： 1998年03月12日
公開日（公表日）： 1999年09月24日
要約：

【要約】【課題】基板保持台への吸着を伴って支持ないしは処理された基板を、吸着力の残留状態に応じて基板保持台から適時に無理なく突き上げて分離でき、信頼性高くスループット効率の低下もないようにする。【解決手段】基板2を基板保持台3に保持して各種の処理に供した後、基板2を基板保持台3から突き上げて分離し次の処理に備える基板2の取り扱いにおいて、処理後の基板2を基板保持台3から突き上げて分離する際に、基板2と基板保持台3との吸着力に関する情報を検出し、吸着力が所定値以上である間突き上げを制御手段18などで規制するようにして、上記のような目的を達成する。

請求項（抜粋）：

基板を基板保持台に保持して各種の処理に供した後、基板を基板保持台から突き上げて分離し次の処理に備える基板の取り扱い方法において、処理後の基板を基板保持台から突き上げて分離する際に、基板の基板保持台への吸着力に関する情報を検出し、吸着力が所定値以上であるとき突き上げを規制することを特徴とする基板の取り扱い方法。

引用特許：

審査官引用 (3件)

静電チヤツク
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-291073 出願人：富士通株式会社
ドライエッチング装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-052537 出願人：松下電器産業株式会社
静電チャック
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-038072 出願人：住友金属工業株式会社

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