特許
J-GLOBAL ID：200903026459777215
パターン修正装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
深見 久郎 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-090539
公開番号（公開出願番号）：特開2000-284467
出願日： 1999年03月31日
公開日（公表日）： 2000年10月13日
要約：
【要約】【課題】 露光用マスクの基板上に形成されたパターンの欠陥を修正可能なパターン修正装置を提供する。【解決手段】 XYテーブル17上に露光用マスク原盤が載置され、白抜け欠陥部分をペースト塗布機構14下まで移動させ、ペースト塗布機構14の針31にペーストを付着させて白抜け欠陥部分に塗布し、IR光源20によって乾燥させる。黒欠陥の場合には、レーザ照射機構13によりレーザカットし、レーザカット後に生じた窪み部分にはペースト塗布機構14により透明ペーストまたは金属ペーストを塗布して修正を行なう。
請求項（抜粋）：
露光用マスク基板上に形成されたパターンの欠陥部を修正するためのパターン修正装置であって、その上に前記基板が設置されて水平方向に移動するテーブルと、前記基板の欠陥部に修正を加えるための修正液を塗布するための針と、前記針を上下方向に移動可能な駆動機構と、前記塗布した修正液を乾燥または固着させるための光源と、前記塗布した修正液を焼成あるいは前記欠陥部を切欠くためのレーザ照射機構とを備えており、前記レーザ照射機構によって前記欠陥部を切欠いた後発生した窪みに対して、前記針で修正液を塗布することを特徴とする、パターン修正装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G03F 1/08 T
, H01L 21/30 502 W
2H095BD32
, 2H095BD33
, 2H095BD34
, 2H095BD39
, 2H095BD40
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (3件)
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