特許
J-GLOBAL ID：200903026473254802

パターン及びその形成方法

発明者：
出口 浩司

出口 浩司 について

, 
田中 かをり

田中 かをり について


出願人/特許権者：
株式会社リコー

株式会社リコー について


代理人 (1件)： 廣田 浩一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-337267
公開番号（公開出願番号）：特開2008-192281
出願日： 2007年12月27日
公開日（公表日）： 2008年08月21日
要約：
【課題】二次元及び三次元の少なくともいずれかのパターンからパターン、特に平面状パターンを複製することができ、マスターの機械的劣化が極めて小さく、簡便な設備により短時間で効率よく複製可能なパターンの形成方法及びパターンの提供。【解決手段】二次元及び三次元の少なくともいずれかのパターンが形成されたマスターと、光の照射を受けると状態が変化する記録層を少なくとも有するパターン被転写材料とを重ね合わせ、光を照射することにより、該記録層中で前記マスターにおけるパターンを転写させるパターンの形成方法である。前記パターンが平面状である態様、前記マスターが光透過性であり、かつ前記マスターを介して光を照射する態様、などが好ましい。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
二次元及び三次元の少なくともいずれかのパターンが形成されたマスターと、光の照射を受けると状態が変化する記録層を少なくとも有するパターン被転写材料とを重ね合わせ、光を照射することにより、該記録層中で前記マスターにおけるパターンを転写させることを特徴とするパターンの形成方法。
IPC (1件)：
G11B 7/26
FI (1件)：
G11B7/26 531
Fターム (7件)：
5D121AA06 ,  5D121BA10 ,  5D121DD13 ,  5D121DD17 ,  5D121DD20 ,  5D121GG02 ,  5D121GG28
引用特許：
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (10件)
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