特許
J-GLOBAL ID:200903069835811625

構造体の形成方法、構造体形成用媒体及び構造体

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 友松 英爾
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2005-074732
公開番号(公開出願番号):特開2006-004594
出願日: 2005年03月16日
公開日(公表日): 2006年01月05日
要約:
【課題】 フォトリソグラフィーを用いない簡便なプロセスで微細な構造体を安価に形成すること、特に、構造体を形成する媒体を光吸収層と熱反応層の積層構成として、光を吸収し発熱する光吸収層と、熱により反応し構造体とする熱反応層を分離することにより、微細な構造体を均一に形成すること。【解決手段】 (1)光吸収層と熱反応層の積層構成を有する媒体を用い、少なくとも、該媒体に対して光を照射する工程、該媒体をエッチング加工する工程により微細な構造体を形成することを特徴とする構造体形成方法。(2)熱反応層が、積層構成の最上層に位置し且つ照射する光の波長において透光性を有する材料を含有し、光を照射する工程において、最上層の熱反応層側から光を照射することを特徴とする(1)記載の構造体形成方法。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
光吸収層と熱反応層の積層構成を有する媒体を用い、少なくとも、該媒体に対して光を照射する工程、該媒体をエッチング加工する工程により微細な構造体を形成することを特徴とする構造体形成方法。
IPC (2件):
G11B 7/26 ,  B41M 5/26
FI (2件):
G11B7/26 501 ,  B41M5/26 X
Fターム (22件):
2H111EA02 ,  2H111EA12 ,  2H111EA25 ,  2H111FA01 ,  2H111FA16 ,  2H111FA21 ,  2H111FA33 ,  2H111FA37 ,  2H111FB05 ,  2H111FB09 ,  2H111FB12 ,  2H111FB25 ,  2H111FB27 ,  2H111FB32 ,  5D121BA05 ,  5D121BB14 ,  5D121BB17 ,  5D121BB26 ,  5D121BB33 ,  5D121BB34 ,  5D121BB38 ,  5D121GG14
引用特許:
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (7件)
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引用文献:
審査官引用 (2件)
  • 書換え可能光ディスク材料, 1989, p.46-47
  • 書換え可能光ディスク材料, 1989, p.46-47

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