特許
J-GLOBAL ID：200903026851052237
線引き中の光ファイバーの冷却方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
川口 義雄 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-400306
公開番号（公開出願番号）：特開2001-192228
出願日： 2000年12月28日
公開日（公表日）： 2001年07月17日
要約：
【要約】【課題】 本発明は、減衰を減少させ機械的強度を保つ、線引き中の光ファイバーの冷却方法を提供する。【解決手段】 ファイバー7の初期温度から前記ファイバー7の高速冷却の終了温度にするために、高速冷却10、すなわち周囲の空気における冷却より速い冷却が行なわれ、その後に、前記ファイバー7の低速冷却の開始温度から、前記ファイバー7の低速冷却の終了温度11にするために、低速冷却11、すなわち周囲の空気における冷却よりゆっくりした冷却が行なわれることを特徴とする。
請求項（抜粋）：
少なくとも1つの冷却ゾーン(10、11、13)で少なくとも1つの冷却流体と接触させることによる、線引き中の光ファイバー(7)の冷却方法であって、高速冷却(10)、すなわち周囲の空気における冷却より速い冷却を行い、高速冷却ゾーン(100)において、シリカガラスを主成分とするファイバーについては2000°Cから1500°Cの間、フッ化物ガラスを主成分とするファイバーについては450°Cから250°Cの間、ポリマー材料を主成分とするファイバーの場合には250°Cから175°Cの間のファイバー(7)の初期温度から、シリカガラスを主成分としたファイバーについては1700°Cから1200°Cの間、フッ化物ガラスを主成分としたファイバーについては400°Cから200°Cの間、ポリマー材料を主成分としたファイバーの場合には225°Cから75°Cの間の前記ファイバーの高速冷却(10)の終了温度にして、それに続いて、低速冷却(11)、すなわち周囲の空気における冷却よりゆっくりとした冷却を行い、低速冷却ゾーン(101)において、シリカガラスを主成分とするファイバーについては1700°Cから1000°Cの間、フッ化物ガラスを主成分とするファイバーについては400°Cから150°Cの間、ポリマー材料を主成分とするファイバーの場合には225°Cから50°Cの間の前記ファイバー(7)の低速冷却(11)の開始温度から、シリカガラスを主成分としたファイバーについては1500°Cから700°Cの間、フッ化物ガラスを主成分としたファイバーについては350°Cから25°Cの間、ポリマー材料を主成分としたファイバーの場合には200°Cから25°Cの間の前記ファイバー(7)の低速冷却の終了温度(11)にすることを特徴とする、線引き中の光ファイバー(7)の冷却方法。
引用特許：
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