ムラ欠陥検出方法及び装置、空間フィルタ、ムラ欠陥検査システム並びにムラ欠陥検出方法のプログラム

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (6件)：小林久夫 , 安島清 , 佐々木宗治 , 大村昇 , 高梨範夫 , 山東元希
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-321816
公開番号（公開出願番号）：特開2006-133055
出願日： 2004年11月05日
公開日（公表日）： 2006年05月25日
要約：

【課題】ムラ成分だけを強調でき、より確実なムラ検出を行うことができるようなムラ欠陥検出方法、自動的にムラ欠陥検出を行うための装置、検査システム等を得る。【解決手段】ムラ検出処理手段7Cが、検出対象の画像に基づく画像データから、任意の基準となる画素と、基準となる画素を中心に所定の距離を有して点対称の関係にある2つの画素との輝度差をそれぞれ求め、基準となる画素の輝度値と、点対称の関係にある2つの画素の輝度値との相対関係に基づいて、2つの画素との輝度差の何れか一方又は所定値を当該2つの画素における仮の値として決め、基準となる画素と点対称の関係にある2つの画素を順次変更して、2つの画素における輝度差を求めて仮の値を決める工程を繰り返し、それぞれ決めた2つの画素における仮の値に基づいて基準となる画素におけるムラ成分強調結果の値を決定する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

(A)検出対象の画像に基づく画像データから、任意の基準となる画素と、前記基準となる画素を中心に所定の距離を有して点対称の関係にある2つの画素との輝度差をそれぞれ求める工程と、 (B)前記基準となる画素の輝度値と、前記点対称の関係にある2つの画素の輝度値との相対関係に基づいて、前記2つの画素との輝度差の何れか一方又は所定値を当該2つの画素における仮の値として決める工程と、 (C)前記基準となる画素と点対称の関係にある2つの画素を順次変更して、上記(A)及び(B)の工程を繰り返し、それぞれ決めた前記2つの画素における仮の値に基づいて前記基準となる画素におけるムラ成分強調結果の値を決定する工程とを有することを特徴とするムラ欠陥検出方法。

IPC (4件)：

G01N 21/88 , G01B 11/30 , G01M 11/00 , G02F 1/13

FI (4件)：

G01N21/88 Z , G01B11/30 Z , G01M11/00 T , G02F1/13 101

Fターム (32件)：

2F065AA49 , 2F065BB02 , 2F065CC25 , 2F065DD04 , 2F065FF01 , 2F065FF04 , 2F065HH15 , 2F065JJ03 , 2F065JJ14 , 2F065JJ26 , 2F065QQ06 , 2F065QQ13 , 2F065QQ15 , 2F065QQ24 , 2F065QQ25 , 2F065QQ31 , 2F065QQ42 , 2F065RR09 , 2G051AA73 , 2G051AB02 , 2G051AB20 , 2G051AC11 , 2G051CA04 , 2G051EA08 , 2G051EB01 , 2G086EE10 , 2G086EE12 , 2H088FA12 , 2H088FA13 , 2H088FA30 , 2H088HA06 , 2H088MA20

引用特許：

出願人引用 (4件)

磁気測定装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2002-207385 出願人：新日本製鐵株式会社
検査装置、検査方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-176210 出願人：インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーション
周期性パターンのムラ検査方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-286120 出願人：大日本印刷株式会社

全件表示

前のページに戻る