特許
J-GLOBAL ID：200903026857456615
光ディスク用原盤の製造方法及び光ディスクの製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
角田 芳末
, 磯山 弘信
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-341281
公開番号（公開出願番号）：特開2004-152465
出願日： 2003年09月30日
公開日（公表日）： 2004年05月27日
要約：
【課題】 既存の露光装置を利用して光ディスクのさらなる高記憶容量化を実現することができる光ディスク用原盤の製造方法及び光ディスクの製造方法を提供する。である。【解決手段】 WやMoのような遷移金属の不完全酸化物を含み、該不完全酸化物は、酸素の含有量が前記遷移金属のとりうる価数に応じた化学量論組成の酸素含有量より小さいものであるようなレジスト材料よりなるレジスト層を基板上に成膜した後、該レジスト層をレーザ光により記録用信号パターンに対応させて選択的に露光し、現像して所定の凹凸パターンが形成された原盤を用いて、その凹凸パターンが転写されたディスクを作製するものである。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
遷移金属の不完全酸化物を含み、該不完全酸化物は、酸素の含有量が前記遷移金属のとりうる価数に応じた化学量論組成の酸素含有量より小さいものであるようなレジスト材料よりなるレジスト層を基板上に成膜した後、該レジスト層を記録用信号パターンに対応させて選択的に露光し、現像して所定の凹凸パターンを形成することを特徴とする光ディスク用原盤の製造方法。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (4件)：
5D121BA03
, 5D121BA05
, 5D121BB01
, 5D121BB21
