特許

J-GLOBAL ID：200903026871034456

インプリント法

発明者： 蒲生 秀典 ,  福上 典仁
出願人/特許権者： 凸版印刷株式会社
代理人 (8件)： 鈴江 武彦 ,  河野 哲 ,  中村 誠 ,  蔵田 昌俊 ,  峰 隆司 ,  福原 淑弘 ,  村松 貞男 ,  橋本 良郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-083453
公開番号（公開出願番号）：特開2007-253544
出願日： 2006年03月24日
公開日（公表日）： 2007年10月04日
要約：

【課題】離型性を向上させるために、表面処理が可能で、かつ、良好なナノメーターオーダーのパターン形成に有用な、レジストの薄膜化が可能な、インプリント法を提供すること。【解決手段】所定のパターンの凹凸面を有するモールドと、表面にレジスト膜が形成された基板とを、前記凹凸面とレジスト膜とが対向するように重ね合わせ、前記モールドの凹凸面の凹凸形状を前記レジスト膜に転写するインプリント方法において、前記レジスト膜は、非晶質カーボン膜であることを特徴とする。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

所定のパターンの凹凸面を有するモールドと、表面にレジスト膜が形成された基板とを、前記凹凸面とレジスト膜とが対向するように重ね合わせ、前記モールドの凹凸面の凹凸形状を前記レジスト膜に転写するインプリント方法において、前記レジスト膜は、非晶質カーボン膜であることを特徴とするインプリント法、

IPC (5件)：

B29C 59/02 ,  H01L 21/027 ,  G03F 7/20 ,  B82B 3/00 ,  B29C 59/00

FI (5件)：

B29C59/02 Z ,  H01L21/30 502D ,  G03F7/20 501 ,  B82B3/00 ,  B29C59/00 Z

Fターム (16件)：

2H097AA20 ,  2H097FA10 ,  2H097LA10 ,  4F209AD08 ,  4F209AD20 ,  4F209AF01 ,  4F209AG03 ,  4F209AG05 ,  4F209AH33 ,  4F209PA02 ,  4F209PB01 ,  4F209PC01 ,  4F209PC05 ,  4F209PN06 ,  4F209PN09 ,  5F046AA28

引用特許：

出願人引用 (2件)

• インプリント加工用金型およびその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-091011   出願人：ダイキン工業株式会社
• モールド、モールドの製造方法、および、パターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-266989   出願人：松下電器産業株式会社

審査官引用 (4件)

• 樹脂成形用金型およびその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-348418   出願人：オリンパス光学工業株式会社
• 特開昭63-078328
  
• 成形型およびその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-331597   出願人：キヤノン株式会社
• インプリント製造方法、その製造装置、磁気記録媒体の製造方法、及びその製造装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-392285   出願人：日立マクセル株式会社