特許
J-GLOBAL ID:200903002872274675
インプリント製造方法、その製造装置、磁気記録媒体の製造方法、及びその製造装置
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
藤元 亮輔
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-392285
公開番号(公開出願番号):特開2004-235613
出願日: 2003年11月21日
公開日(公表日): 2004年08月19日
要約:
【課題】 モールドの寿命を延ばすこと及び/又は高品位な処理を被処理体に施すことが可能なインプリント方法及び装置を提供する。【解決手段】 加圧気体又は超臨界流体を利用して、レジストが塗布された基板からなる被処理体の前記レジストを柔軟にする工程と、前記被処理体の前記レジスト側に、所定のパターンが形成されたモールドを押し付けて前記所定のパターンを前記レジストに転写する工程とを有することを特徴とするインプリント方法及び装置を提供する。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
加圧気体又は超臨界流体を利用して、レジストが塗布された基板からなる被処理体の前記レジストを柔軟にする工程と、
前記被処理体の前記レジスト側に、所定のパターンが形成されたモールドを押し付けて前記所定のパターンを前記レジストに転写する工程とを有することを特徴とするインプリント方法。
IPC (2件):
FI (2件):
H01L21/30 502D
, G11B5/84 Z
Fターム (6件):
5D112AA02
, 5D112AA24
, 5D112BA02
, 5D112BA09
, 5D112BA10
, 5F046AA28
引用特許:
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (10件)
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