モールド、モールドの製造方法、および、パターン形成方法

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：岩橋文雄 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-266989
公開番号（公開出願番号）：特開2003-077807
出願日： 2001年09月04日
公開日（公表日）： 2003年03月14日
要約：

【要約】【課題】インプリント法により良好な形状の微細パターン形成を行うことを目的とする。【解決手段】有機膜を基板上に形成する工程と、上記有機膜にプラズマ処理を行ったパターン形成用の凸部又は凹部を有するモールドを前記基板に対向するように圧着させる工程と、前記基板から前記モールドを脱着することによりパターンを形成するパターン形成方法。

請求項（抜粋）：

パターン形成用の凸部又は凹部が形成されている圧着面を有するモールド本体と、前記モールド本体の少なくとも前記圧着面に形成されており、F原子を含むプラズマ処理によって表面が疎水化処理された表面処理層を備えたモールド。

IPC (2件)：

H01L 21/027 , H01L 21/3205

FI (2件)：

H01L 21/30 502 D , H01L 21/88 B

Fターム (5件)：

5F033QQ00 , 5F033QQ54 , 5F033XX03 , 5F033XX34 , 5F046AA28

引用特許：

審査官引用 (8件)

従来の解像度限界を超える光学的リソグラフィ
公報種別：公表公報出願番号：特願2000-513173 出願人：インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレ-ション
非付着性層を有するスタンプ、該スタンプの形成方法及び修復方法
公報種別：公表公報出願番号：特願2003-511035 出願人：ウブドゥカットアクティエボラーグ
平坦な基板表面に硬化フォトレジストのパターン化レリーフを設ける方法および装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-045855 出願人：フィリップスエレクトロニクスネムローゼフェンノートシャップ

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