特許

J-GLOBAL ID：200903026890202092

光活性化合物の混合物を含む深紫外線リソグラフィ用のフォトレジスト組成物

発明者： パドマナバン・ムニラトナ ,  工藤 隆範 ,  リー・サンホー ,  ダンメル・ラルフ・アール ,  ラーマン・ダリル・エム
出願人/特許権者： AZエレクトロニックマテリアルズ株式会社
代理人 (4件)： 江崎 光史 ,  三原 恒男 ,  奥村 義道 ,  鍛冶澤 實
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-513846
公開番号（公開出願番号）：特表2005-534952
出願日： 2003年06月11日
公開日（公表日）： 2005年11月17日
要約：

本発明は、水性アルカリ性溶液で現像することができ、そして深紫外の露光波長で像形成することができる、新規のフォトレジスト組成物に関する。また本発明は、該新規フォトレジストに像を形成する方法並びに新規の光酸発生剤にも関する。

請求項（抜粋）：

a) 酸感応性基を含むポリマー; 及び b) 光活性化合物の混合物 を含むフォトレジスト組成物であって、前記混合物が、以下の構造(1)及び(2)から選択される低吸光性化合物、及び以下の構造(4)及び(5)から選択される高吸光性化合物を含む、前記フォトレジスト組成物。

IPC (4件)：

G03F7/039 ,  G02F1/13 ,  G03F7/004 ,  H01L21/027

FI (4件)：

G03F7/039 601 ,  G02F1/13 101 ,  G03F7/004 503A ,  H01L21/30 502R

Fターム (15件)：

2H025AA02 ,  2H025AB16 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE07 ,  2H025BE10 ,  2H025CB14 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17 ,  2H088FA18 ,  2H088FA24 ,  2H088HA02 ,  2H088HA04 ,  2H088HA08 ,  2H088MA03

引用特許：

審査官引用 (5件)

• 感放射線性樹脂組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-219125   出願人：日本合成ゴム株式会社
• 感放射線性樹脂組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-060381   出願人：ジェイエスアール株式会社
• 感放射線性樹脂組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-032412   出願人：ジェイエスアール株式会社
• 感放射線性樹脂組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-153730   出願人：JSR株式会社
• 新規オニウム塩およびそれを含有する感放射線性樹脂 組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-177743   出願人：日本合成ゴム株式会社