特許
J-GLOBAL ID：200903026919342905
プラズマ処理装置及びプラズマ点灯方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
西川 惠清 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-193415
公開番号（公開出願番号）：特開2002-008894
出願日： 2000年06月27日
公開日（公表日）： 2002年01月11日
要約：
【要約】【課題】 プラズマの点灯が確実に行えて始動が良好であり、しかも安価なプラズマ処理装置を提供する。【解決手段】 大気圧近傍の圧力下で、片側を吹き出し口1として開放させた反応容器2内で高周波放電プラズマを生成する。生成したプラズマを反応容器2の吹き出し口1よりジェット状に吹き出すプラズマ処理装置に関する。プラズマを点灯するための点灯手段5を備える。インピーダンス整合回路に高電圧がかからないようにしてプラズマを点灯させることができる。
請求項（抜粋）：
大気圧近傍の圧力下で、片側を吹き出し口として開放させた反応容器内で高周波放電プラズマを生成し、生成したプラズマを反応容器の吹き出し口よりジェット状に吹き出すプラズマ処理装置において、プラズマを点灯するための点灯手段を備えて成ることを特徴とするプラズマ処理装置。
IPC (4件)：
H05H 1/24
, C23C 16/513
, H01L 21/3065
, H05H 1/34
H05H 1/24
, C23C 16/513
, H05H 1/34
, H01L 21/302 B
4K030FA01
, 4K030KA30
, 5F004AA14
, 5F004BA03
, 5F004BA04
, 5F004BB12
, 5F004BB13
, 5F004BB28
, 5F004BD01
, 5F004CA02
, 5F004CA07
, 5F004DA00
, 5F004DA01
, 5F004DA22
, 5F004DA23
, 5F004DA24
, 5F004DA25
, 5F004DA26
, 5F004DB01
, 5F004DB13
, 5F004DB23
