特許

J-GLOBAL ID：200903026998113517

シリコンウエハーエッチング用苛性ソーダ水溶液

発明者： 浜田 一幸 ,  榊 壮一 ,  安藤 敬二
出願人/特許権者： 旭化成ケミカルズ株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-193735
公開番号（公開出願番号）：特開2009-029650
出願日： 2007年07月25日
公開日（公表日）： 2009年02月12日
要約：

【課題】シリコンウエハーがニッケルで汚染されるのを高度に抑制する高機能の苛性ソーダ水溶液を提供する。【解決手段】カルボン酸塩類を含有させた苛性ソーダ水溶液をシリコンウエハーのエッチングに供することで、シリコンウエハーの金属汚染を大幅に抑制できる。カルボン酸塩類の苛性ソーダ水溶液中の含有量は特に限定されないが、0.01重量%以上で5重量%以下が好ましい。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

カルボン酸塩類を含有することを特徴とするシリコンウエハーエッチング用苛性ソーダ水溶液。

IPC (2件)：

C01D 1/40 ,  C23F 1/40

FI (2件)：

C01D1/40 ,  C23F1/40

Fターム (6件)：

4K057WA01 ,  4K057WB06 ,  4K057WE21 ,  4K057WE22 ,  4K057WF10 ,  4K057WN01

引用特許：

出願人引用 (3件)

• アルカリ溶液の精製装置及びその方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-119994   出願人：鶴見曹達株式会社
• 高純度水酸化アルカリ金属の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2005-332466   出願人：鶴見曹達株式会社
• アルカリ溶液の純化方法及び半導体ウェーハのエッチ ング方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-039921   出願人：信越半導体株式会社