特許

J-GLOBAL ID：200903027029784214

レジスト組成物

発明者： 白井 正充 ,  辻 昭一郎 ,  井谷 俊郎
出願人/特許権者： 公立大学法人大阪府立大学 ,  松下電器産業株式会社 ,  NECエレクトロニクス株式会社
代理人 (12件)： 前田 弘 ,  小山 廣毅 ,  竹内 宏 ,  嶋田 高久 ,  竹内 祐二 ,  今江 克実 ,  藤田 篤史 ,  二宮 克也 ,  原田 智雄 ,  井関 勝守 ,  関 啓 ,  杉浦 靖也
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-253961
公開番号（公開出願番号）：特開2007-065503
出願日： 2005年09月01日
公開日（公表日）： 2007年03月15日
要約：

【課題】ドライエッチ耐性を有し且つレジストパターンが倒れにくく、酸の溶出防止が可能であると共に、レジストとしての基本特性が優れたレジスト組成物を実現できるようにする。【解決手段】レジスト組成物は、少なくとも1つのアクリル酸エステル誘導体等に由来する繰り返し単位を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する酸解離性基を有する重合体と、架橋剤又は架橋開始剤を含有している。酸解離性基を有する重合体は、分子内に含酸素単環系誘導体又は含硫黄環系誘導体を含む化合物である。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

(A)一般式(I)で表される繰り返し単位を少なくとも1種類有し、アルカリ現像液に対する溶解度が増大する酸解離性基を有する重合体及び (B)架橋剤又は架橋開始剤を含有し、 前記重合体(A)は、分子内に含酸素単環系誘導体又は含硫黄環系誘導体を含む化合物であることを特徴とするレジスト組成物。

IPC (4件)：

G03F 7/039 ,  C08F 20/10 ,  G03F 7/004 ,  H01L 21/027

FI (4件)：

G03F7/039 601 ,  C08F20/10 ,  G03F7/004 501 ,  H01L21/30 502R

Fターム (28件)：

2H025AA03 ,  2H025AA04 ,  2H025AA09 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  2H025CC17 ,  2H025CC20 ,  2H025FA17 ,  2H025FA29 ,  4J100AL08P ,  4J100BA03P ,  4J100BA16P ,  4J100BA40P ,  4J100BB01P ,  4J100BB03P ,  4J100BC43P ,  4J100BC53P ,  4J100BC54P ,  4J100BC83P ,  4J100CA03 ,  4J100JA38

引用特許：

出願人引用 (2件)

• リソグラフィー用リンス液およびそれを用いたレジストパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-350600   出願人：クラリアントジャパン株式会社, 東京エレクトロン株式会社
• 感放射線性樹脂組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-273290   出願人：JSR株式会社, 株式会社半導体先端テクノロジーズ