特許
J-GLOBAL ID：200903078462420778
リソグラフィー用リンス液およびそれを用いたレジストパターン形成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (2件)：
鐘尾 宏紀
, 野口 武男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-350600
公開番号（公開出願番号）：特開2004-184648
出願日： 2002年12月03日
公開日（公表日）： 2004年07月02日
要約：
【目的】レジストパターンの剥がれや倒れを防止し、特にアスペクト比の大きなレジストパターンを再現性よく形成することのできるリソグラフィー用リンス液およびそれを用いたパターン形成方法を提供する。【構成】水と、エチレンオキシ基を有しフッ素原子を有さない非イオン性界面活性剤を含有するリソグラフィー用リンス液を用いて、現像処理後のレジストパターンのリンスを行う。
請求項（抜粋）：
水およびエチレンオキシ基(-CH2CH2O-)を有しフッ素原子を有しない非イオン性界面活性剤を含有することを特徴とするリソグラフィー用リンス液。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G03F7/32 501
, H01L21/30 569E
2H096AA25
, 2H096AA27
, 2H096AA28
, 2H096GA18
, 5F046LA12
