紫外線レーザ装置

発明者： , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：木村高久 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-393809
公開番号（公開出願番号）：特開2003-195372
出願日： 2001年12月26日
公開日（公表日）： 2003年07月09日
要約：

【要約】【課題】スペクトル線幅が非常に狭い、真空紫外領域の波長を有するレーザ光を出射する紫外線レーザ装置を提供する。【解決手段】紫外レーザ装置において、波長の異なるレーザ光(L24,L32B)を1種類又は2種類の同位体を、自然界に存在する比率よりも多くの比率で含んでいるキセノンに入射させ、2光子共鳴4光波混合の非線形光学効果によって、フッ素分子レーザ光と略同一波長のレーザ光(L40)を出射させことを特徴とする紫外線レーザ装置。

請求項（抜粋）：

紫外線レーザ装置において、波長の異なるレーザ光(L24,L32B)を1種類又は2種類の同位体を自然界に存在する比率よりも多くの比率で含んだキセノンに入射させ、フッ素分子レーザ光と略同一波長のレーザ光(L40)を出射させることを特徴とする紫外線レーザ装置。

IPC (4件)：

G02F 1/35 , H01S 3/10 , H01S 3/108 , H01S 3/22

FI (4件)：

G02F 1/35 , H01S 3/10 C , H01S 3/108 , H01S 3/22

Fターム (23件)：

2K002AB12 , 2K002BA03 , 2K002CA02 , 2K002HA20 , 2K002HA31 , 5F071AA02 , 5F071HH01 , 5F071HH05 , 5F071JJ10 , 5F072AA02 , 5F072AB15 , 5F072AB20 , 5F072HH05 , 5F072JJ13 , 5F072KK06 , 5F072KK07 , 5F072KK12 , 5F072PP07 , 5F072QQ02 , 5F072QQ04 , 5F072QQ05 , 5F072RR05 , 5F072YY09

引用特許：

審査官引用 (3件)

光源装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-283766 出願人：株式会社ウシオ総合技術研究所
紫外レーザ装置及び半導体露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-152394 出願人：株式会社ニコン
注入同期型狭帯域レーザ
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-105055 出願人：株式会社小松製作所

引用文献：

審査官引用 (3件)

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