紫外レーザ装置及び半導体露光装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：三品岩男 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-152394
公開番号（公開出願番号）：特開平10-341054
出願日： 1997年06月10日
公開日（公表日）： 1998年12月22日
要約：

【要約】【課題】時間コヒーレンスおよび空間コヒーレンスの高い、しかも大出力の193nmあるいはその近傍波長のレーザ光を発生する紫外レーザ装置を実現すると共に、該紫外レーザ装置を光源として用いてレンズ波面収差測定を行うフィゾー干渉計を提供する。【解決手段】500nm付近の連続波を発生する第1のレーザ23、266nmの連続波を発生する第2のレーザ21、チタンサファイヤ結晶を含む第1の共振器24、および、和周波発生のための第2の共振器22を備え、これら共振器24、22の光路中において反射鏡223と反射鏡224との間の光路を両共振器間で共有させ、その中に和周波発生のための非線形光学結晶BBO(β-BaB2O4)を配置することによって、193nmの出力光27を得る。

請求項（抜粋）：

和周波発生を行う紫外レーザ装置において、第1のレーザ光を発生させる第1のレーザ光発生源および該第1のレーザ光を共振させる第1の共振器と、第2のレーザ光を発生させる第2のレーザ光発生源および該第2のレーザ光を共振させる第2の共振器とを備え、前記第1および第2の共振器は、一部の光路が共有配置されるものであって、該共有光路中に設置される和周波発生のための非線形光学結晶を備えることを特徴とする紫外レーザ装置。

IPC (5件)：

H01S 3/108 , G02F 1/37 , G03F 7/20 505 , H01L 21/027 , H01S 3/16

FI (5件)：

H01S 3/108 , G02F 1/37 , G03F 7/20 505 , H01S 3/16 , H01L 21/30 515 B

引用特許：

審査官引用 (6件)

特開平2-002194
第三高調波発生装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-184861 出願人：富士通株式会社
特開平2-126242

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