特許
J-GLOBAL ID：200903027053140476

基板処理装置

発明者：
基村 雅洋

基村 雅洋 について


出願人/特許権者：
大日本スクリーン製造株式会社

大日本スクリーン製造株式会社 について


代理人 (1件)： 吉田 茂明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-050354
公開番号（公開出願番号）：特開2002-252201
出願日： 2001年02月26日
公開日（公表日）： 2002年09月06日
要約：
【要約】【課題】 有機溶剤の蒸気の純水への溶解を防止してパーティクルの転写を抑制することができる基板処理装置を提供する。【解決手段】 第2供給ノズル50から窒素ガスを水平方向に向けて吐出することにより、処理槽20に貯留された純水の表面を覆う窒素ガス流が形成される。一方、第1供給ノズル40からIPA蒸気を上方に向けて吐出することにより、処理槽20の上方にIPA蒸気を含む雰囲気が形成される。昇降機構30によって処理槽20から引き揚げられる基板Wは窒素ガス流を通過してIPA蒸気を含む雰囲気に到達することにより乾燥される。第1供給ノズル40からIPA蒸気を直接純水に向けて吐出せず、窒素ガス流によってIPA蒸気を含む雰囲気と純水との接触を防止しているため、IPA蒸気の純水への溶解を防止することができ、IPA蒸気の溶解に起因するパーティクルの転写を抑制することができる。
請求項（抜粋）：
純水による洗浄処理が終了した基板の乾燥処理を行う基板処理装置であって、純水を貯留し、該純水中に基板を浸漬して洗浄処理を行う処理槽と、前記処理槽を収容する収容器と、前記収容器内に設けられ、略水平方向にガスを吐出して前記処理槽に貯留された純水の表面を覆う気流を形成する気流形成手段と、前記収容器内の前記気流形成手段よりも上に設けられ、有機溶剤の蒸気を上方に向けて吐出し、前記処理槽の上方に前記有機溶剤の蒸気を含む雰囲気を形成する有機溶剤吐出手段と、前記洗浄処理が終了した基板を前記処理槽から前記気流を通過させて前記有機溶剤の蒸気を含む雰囲気中に引き揚げる引き揚げ手段と、を備えることを特徴とする基板処理装置。
IPC (3件)：
H01L 21/304 651 ,  B08B 3/04 ,  F26B 21/14
FI (3件)：
H01L 21/304 651 H ,  B08B 3/04 ,  F26B 21/14
Fターム (24件)：
3B201AA03 ,  3B201AB01 ,  3B201AB44 ,  3B201BB11 ,  3B201BB82 ,  3B201CC11 ,  3L113AA05 ,  3L113AB02 ,  3L113AC01 ,  3L113AC23 ,  3L113AC26 ,  3L113AC46 ,  3L113AC48 ,  3L113AC52 ,  3L113AC67 ,  3L113BA34 ,  3L113CA20 ,  3L113CB01 ,  3L113CB12 ,  3L113CB15 ,  3L113CB17 ,  3L113CB23 ,  3L113CB34 ,  3L113DA04
引用特許：
審査官引用 (6件)
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