特許
J-GLOBAL ID:200903027053898204

露光装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 金山 聡
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-385053
公開番号(公開出願番号):特開2002-182397
出願日: 2000年12月19日
公開日(公表日): 2002年06月26日
要約:
【要約】【課題】 帯状の金属板材を素材として用い、フォトエッチング法によりエッチング加工を行なう生産ラインにおける、製版工程の露光に用いられる露光装置で、フォトマスクの、枠部の位置決めピンへの装着が容易で、品質面でも少なくとも現状を確保できる露光装置を提供する。【解決手段】 その両面に感光性のレジスト膜を設けた基材の両面から露光を行なう両面露光装置であって、各枠部には、フォトマスクの上下方向の位置を決めるための位置決めピンもしくはブロックと、フォトマスクをこの上に載せ、位置決めピンもしくはブロックとの間で受け渡しを行なうための、受け渡しピンとを、枠部下部に設けており、受け渡しピンは、位置決めピンもしくはブロックの上面より下の位置の、枠部に垂直な一方向を中心として、回転できるもので、受け渡しピンによりフォトマスクを位置決めピンへ渡した後、受け渡しピンを回転して、受け渡しピンがフォトマスクの基材への密着を阻害しないようにしてから、フォトマスクを基材の両面に密着させ、基材の両面から露光を行なうものである。
請求項(抜粋):
その両面に感光性のレジスト膜を設けた基材の、両面のレジスト膜をそれぞれ露光するための(同じサイズの)一対のフォトマスクを、互いに対向して、それぞれ略鉛直方向に取り付ける枠部を一対備え、前記一対のフォトマスク間に基材を配し、枠部間を真空引きして、且つ、前記一対のフォトマスクを互いに位置合せして、前記一対のフォトマスクを基材の両面に密着させ、基材の両面から露光を行なう両面露光装置であって、各枠部には、フォトマスクの上下方向の位置を決めるための位置決めピンもしくはブロックと、フォトマスクをこの上に載せ、位置決めピンもしくはブロックとの間で受け渡しを行なうための、受け渡しピンとを、枠部下部に設けており、受け渡しピンは、位置決めピンもしくはブロックの上面より下の位置の、枠部に垂直な一方向を中心として、回転できるもので、受け渡しピンによりフォトマスクを位置決めピンへ渡した後、受け渡しピンを回転して、受け渡しピンがフォトマスクの基材への密着を阻害しないようにしてから、フォトマスクを基材の両面に密着させ、基材の両面から露光を行なうものであることを特徴とする露光装置。
IPC (2件):
G03F 7/20 501 ,  G03F 9/00
FI (2件):
G03F 7/20 501 ,  G03F 9/00 Z
Fターム (2件):
2H097AA01 ,  2H097GA33
引用特許:
審査官引用 (6件)
  • 特開平1-312547
  • 基板搬送装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平9-045561   出願人:株式会社ニコン
  • 露光用治具
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平8-024628   出願人:東洋通信機株式会社
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