特許
J-GLOBAL ID:200903027139975597
被膜除去方法およびその装置
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
杉村 次郎
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平3-307116
公開番号(公開出願番号):特開平5-121307
出願日: 1991年10月28日
公開日(公表日): 1993年05月18日
要約:
【要約】【目的】 被膜除去方法およびその装置において、被膜の除去作業が能率的にでき、生産性が良く、かつ確実に被膜を除去することができるようにする。【構成】 ターンテーブル1に基板4を固定し、ターンテーブル1と共に基板4を回転させながら、表面の被膜5の所定個所に基板4の外側に向けて傾いた溶解液供給ノズル8により溶解液7を斜めに吹き付け、この溶解液7で被膜5の所定個所を溶解し、この溶解した被膜5を基板4の回転による遠心力で飛散させることにより、不要な部分の被膜5を除去する。
請求項(抜粋):
表面に被膜が形成された基板を回転させながら、前記被膜の所定個所に溶解液を前記基板の外側に向けて斜めに吹き付け、この溶解液で前記被膜の所定個所を溶解し、この溶解した被膜を前記基板の回転による遠心力で飛散させることを特徴とする被膜除去方法。
引用特許:
審査官引用 (8件)
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特開昭63-296341
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特開平1-289250
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特開平2-272454
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特開平4-096319
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特開平4-130716
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被膜溶剤塗布装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平3-167975
出願人:菱電セミコンダクタシステムエンジニアリング株式会社, 三菱電機株式会社
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半導体装置の製造方法及びこれに使用できる基板洗浄装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平3-276506
出願人:ソニー株式会社
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スピンコータ
公報種別:公開公報
出願番号:特願平3-256351
出願人:富士通株式会社
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