特許
J-GLOBAL ID：200903027174131431

投影露光装置およびそれを用いた半導体デバイスの製造方法

発明者：
篠田 健一郎

篠田 健一郎 について


出願人/特許権者：
キヤノン株式会社

キヤノン株式会社 について


代理人 (1件)： 高梨 幸雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-062003
公開番号（公開出願番号）：特開2000-260698
出願日： 1999年03月09日
公開日（公表日）： 2000年09月22日
要約：
【要約】【課題】投影光学系の瞳面上の有効光源分布が所望の分布となるようにして、レチクル面上のパターンをウエハ面上に高解像度で投影露光することができる投影露光装置およびそれを用いた半導体デバイスの製造方法を得ること。【解決手段】光源からの光束を照明系により被照射面上のパターンを照明し、該パターンを投影光学系により基板面上に投影し露光する投影露光装置において、該投影光学系の瞳面上の有効光源分布を検出手段で求め、該検出手段からの信号に基づいて光源位置自動調整機構によって該光源の位置を自動制御していること。
請求項（抜粋）：
光源からの光束を照明系により被照射面上のパターンを照明し、該パターンを投影光学系により基板面上に投影し露光する投影露光装置において、該投影光学系の瞳面上の有効光源分布を適時検出手段で求め、該検出手段からの信号に基づいて光源位置自動調整機構によって該光源の位置を自動制御していることを特徴とする投影露光装置。
IPC (2件)：
H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521
FI (2件)：
H01L 21/30 515 D ,  G03F 7/20 521
Fターム (15件)：
5F046BA03 ,  5F046CA02 ,  5F046CB03 ,  5F046CB05 ,  5F046CB07 ,  5F046CB12 ,  5F046CB13 ,  5F046CB22 ,  5F046CB23 ,  5F046DA01 ,  5F046DA02 ,  5F046DA11 ,  5F046DB01 ,  5F046DC02 ,  5F046DC12
引用特許：
審査官引用 (4件)
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