特許
J-GLOBAL ID：200903093512952040
投影露光装置及びそれを用いた半導体デバイスの製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高梨 幸雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-303902
公開番号（公開出願番号）：特開平10-135123
出願日： 1996年10月29日
公開日（公表日）： 1998年05月22日
要約：
【要約】【課題】 投影光学系の瞳面上の有効光源分布を所望の分布として、レチクル面上のパターンを投影光学系でウエハ面上に高解像度で投影露光することができる投影露光装置及びそれを用いた半導体デバイスの製造方法を得ること。【解決手段】 光源からの光束を照明系により被照射面上のパターンを照明し、該パターンを投影光学系により基板面上に投影し露光する投影露光装置において、該投影光学系の瞳面上の有効光源分布を検出手段で求め、該検出手段からの信号に基づいて光源位置調整機構によって該光源の位置調整を行っていること。
請求項（抜粋）：
光源からの光束を照明系により被照射面上のパターンを照明し、該パターンを投影光学系により基板面上に投影し露光する投影露光装置において、該投影光学系の瞳面上の有効光源分布を検出手段で求め、該検出手段からの信号に基づいて光源位置調整機構によって該光源の位置調整を行っていることを特徴とする投影露光装置。
IPC (2件)：
H01L 21/027
, G03F 7/20 521
H01L 21/30 516 C
, G03F 7/20 521
, H01L 21/30 516 Z
