基板処理装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：間宮武雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-035183
公開番号（公開出願番号）：特開2003-109894
出願日： 2002年02月13日
公開日（公表日）： 2003年04月11日
要約：

【要約】【課題】スリット状のもしくは複数の小孔が並列した液吐出口を有する処理液吐出ノズルを走査しつつ液吐出口から基板上へ処理液を吐出する処理方式において、処理液の無駄な消費を無くすことができる装置を提供する。【解決手段】ウエハ保持部10に保持されたウエハWを取り囲むように配設された現像カップ16の周辺に、現像液吐出ノズル24のスリット状液吐出口26からウエハ面外に吐出された現像液を回収するための回収容器30を配設した。

請求項（抜粋）：

基板を水平姿勢に保持する基板保持手段と、この基板保持手段に保持された基板を取り囲むように配設されたカップと、下端部にスリット状のもしくは複数の小孔が並列した液吐出口を有し基板に対して相対的に水平方向へ移動しつつ前記液吐出口から基板上へ処理液を吐出する処理液吐出ノズルと、この処理液吐出ノズルを基板に対して相対的に水平方向へ移動させる水平移動手段と、を備えた基板処理装置において、前記カップの周辺に、前記処理液吐出ノズルの液吐出口から基板面外に吐出された処理液を回収するための回収容器を配設したことを特徴とする基板処理装置。

IPC (4件)：

H01L 21/027 , B05C 11/08 , B05C 11/10 , G03F 7/30 501

FI (4件)：

B05C 11/08 , B05C 11/10 , G03F 7/30 501 , H01L 21/30 569 C

Fターム (21件)：

2H096AA25 , 2H096GA31 , 4F042AA02 , 4F042AA07 , 4F042CC07 , 4F042CC10 , 4F042CC15 , 4F042DB01 , 4F042DF09 , 4F042DF32 , 4F042EB05 , 4F042EB09 , 4F042EB13 , 4F042EB18 , 4F042EB25 , 5F046LA03 , 5F046LA04 , 5F046LA05 , 5F046LA06 , 5F046LA07 , 5F046LA14

引用特許：

審査官引用 (6件)

液処理装置及びその方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-210758 出願人：東京エレクトロン株式会社
膜形成方法及び膜形成装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-328800 出願人：東京エレクトロン株式会社
現像装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-216372 出願人：大日本スクリーン製造株式会社

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