特許
J-GLOBAL ID:200903079847827220

回転式塗布装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 吉田 茂明 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-369841
公開番号(公開出願番号):特開平11-244765
出願日: 1993年12月20日
公開日(公表日): 1999年09月14日
要約:
【要約】【課題】 余剰塗布液の乾燥固化により塵埃が発生し、基板の歩留まりが低下する。【解決手段】 回転台6上の基板に向けて塗布液を吐出した後に、基板を回転台6上の空間S内に収容した状態で回転台6とともに回転して塗布処理を行う回転式塗布装置において、基板から飛散する余剰の塗布液を回転台6の周囲の開口20cから排出する。このとき、トラップ洗浄ノズル52から洗浄液を開口20cに向けて吐出し、開口20c近傍に残留する余剰塗布液を溶解除去する。これにより、余剰塗布液の乾燥固化による塵埃の発生を低減することができ、基板への塵埃の付着による歩留まりの低下を防止することができる。
請求項(抜粋):
基板を回転させつつ当該基板の表面に塗布液を塗布する回転式塗布装置であって、上方を覆う部材と一体となって前記基板を収容する空間を形成するとともに当該空間内で前記基板を水平支持した状態で回転させる回転台と、前記回転台の少なくとも外周側方および外周下方を取り囲むように配置され、前記塗布液の外部への飛散を防止するカップと、前記カップ内に連通する排気口を有し、当該排気口を通じて前記カップ内の空気を排気する排気手段と、前記基板を収容する空間と連通し、前記回転台が回転することにより前記基板から飛散する余剰塗布液を当該空間から排出する開口と、前記開口に向けて洗浄液を吐出する開口洗浄ノズルと、を備える回転式塗布装置。
IPC (3件):
B05C 11/08 ,  G03F 7/16 502 ,  H01L 21/027
FI (3件):
B05C 11/08 ,  G03F 7/16 502 ,  H01L 21/30 564 C
引用特許:
審査官引用 (4件)
  • 処理装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平4-083217   出願人:東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン九州株式会社
  • 塗布装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平4-136125   出願人:東京応化工業株式会社
  • レジスト塗布装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平4-078088   出願人:富士通株式会社
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