特許
J-GLOBAL ID：200903027300655794

ホウ素含有排水の処理方法及び処理装置

発明者：
和田 祐司

和田 祐司 について

, 
今村 邦仁

今村 邦仁 について

, 
松上 俊行

松上 俊行 について


出願人/特許権者：
NECファシリティーズ株式会社

NECファシリティーズ株式会社 について


代理人 (1件)： 丸山 隆夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-227179
公開番号（公開出願番号）：特開2007-038171
出願日： 2005年08月04日
公開日（公表日）： 2007年02月15日
要約：
【課題】 長期的かつ安定的に良好な処理性を維持することができ、かつ汚泥発生量も少量となる効率的なホウ素含有排水の処理方法及び処理装置を提供する。【解決手段】 ホウ素を含有する排水に、化合物を加えてアルカリ性に調整して反応液と不溶性析出物とを生成させる第一工程と、第一工程から導入された反応液に凝集剤を加え、処理水と汚泥とに分離する第二工程と、第二工程の汚泥の一部に、第二工程で加えた凝集剤とは異なるイオン性の凝集剤を加えて混合した後、第一工程に返送する第三工程とを含むことにより、薬剤が第三工程から第一工程へ循環するので、より少ない薬剤で長期的かつ安定的に良好な処理性を維持することができ、かつ汚泥発生量も少ない効率的なホウ素含有排水の処理を実現することができる。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
ホウ素を含有する排水に、化合物を加えて反応液と不溶性析出物とを生成させる第一工程と、 前記第一工程から導入された前記反応液に凝集剤を加えて処理水と汚泥とに分離する第二工程と、 前記第二工程から導入された前記汚泥の一部に前記凝集剤とは異なる凝集剤を加えて混合した後、前記第一工程に返送する第三工程と、 を含むことを特徴とするホウ素含有排水の処理方法。
IPC (4件)：
C02F 1/58 ,  C02F 11/14 ,  C02F 1/56 ,  C02F 11/00
FI (4件)：
C02F1/58 H ,  C02F11/14 D ,  C02F1/56 K ,  C02F11/00 Z
Fターム (25件)：
4D015BA19 ,  4D015BA25 ,  4D015BB09 ,  4D015BB17 ,  4D015CA20 ,  4D015DB01 ,  4D015DC06 ,  4D015EA32 ,  4D015FA01 ,  4D015FA03 ,  4D015FA11 ,  4D015FA28 ,  4D038AA08 ,  4D038AB25 ,  4D038BA02 ,  4D038BA04 ,  4D038BB13 ,  4D038BB18 ,  4D059AA03 ,  4D059BE56 ,  4D059BJ00 ,  4D059BK11 ,  4D059BK12 ,  4D059BK22 ,  4D059CA28
引用特許：
出願人引用 (4件)
全件表示
審査官引用 (2件)

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