ブロックコポリマーならびにその製造方法および使用

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：矢野敏雄 (外3名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-541091
公開番号（公開出願番号）：特表2003-516430
出願日： 2000年11月18日
公開日（公表日）： 2003年05月13日
要約：

【要約】本発明は、a)式(I)【化1】[式中、Rは水素またはメチルを表し、R1は1〜5個の炭素原子を有する直鎖状もしくは分枝鎖状のアルキル基を表し、R2およびR3は無関係に水素または式-COOR′の基を表し、その際、R′は水素または1〜5個の炭素原子を有するアルキル基を表す]のエチレン性不飽和エステル化合物1種以上 0〜40質量%、b)式(II)【化2】[式中、Rは水素またはメチルを表し、R4は6〜15個の炭素原子を有する直鎖状もしくは分枝鎖状のアルキル基を表し、R5およびR6は無関係に水素または式-COOR′′の基を表し、その際、R′′は水素または6〜15個の炭素原子を有するアルキル基を表す]のエチレン性不飽和エステル化合物1種以上 10〜98質量%、c)式(III)【化3】[式中、Rは水素またはメチルを表し、R7は16〜30個の炭素原子を有する直鎖状もしくは分枝鎖状のアルキル基を表し、R8およびR9は無関係に水素または式-COOR′′′の基を表し、その際、R′′′は水素または16〜30個の炭素原子を有するアルキル基を表す]のエチレン性不飽和エステル化合物1種以上 0〜80質量%、d)コモノマー 0〜50質量%からなるオレフィン系不飽和モノマーの混合物を重合することにより得られ、その際、連鎖生長反応中にエチレン性不飽和モノマーの混合物を不連続的に変更して、そのブロックが少なくとも30のモノマー単位を有するブロックコポリマーが得られるブロックコポリマーに関する。新規のコポリマーは流動点改善剤として使用する。

請求項（抜粋）：

ブロックコポリマーにおいて、その都度、エチレン性不飽和モノマーの全質量に対して、 a)式(I) 【化1】[式中、Rは水素またはメチルを表し、R1は1〜5個の炭素原子を有する直鎖状もしくは分枝鎖状のアルキル基を表し、R2およびR3は無関係に水素または式-COOR′の基を表し、その際、R′は水素または1〜5個の炭素原子を有するアルキル基を表す]のエチレン性不飽和エステル化合物1種以上 0〜40質量%、 b)式(II) 【化2】[式中、Rは水素またはメチルを表し、R4は6〜15個の炭素原子を有する直鎖状もしくは分枝鎖状のアルキル基を表し、R5およびR6は無関係に水素または式-COOR′′の基を表し、その際、R′′は水素または6〜15個の炭素原子を有するアルキル基を表す]のエチレン性不飽和エステル化合物1種以上 10〜98質量%、 c)式(III) 【化3】[式中、Rは水素またはメチルを表し、R7は16〜30個の炭素原子を有する直鎖状もしくは分枝鎖状のアルキル基を表し、R8およびR9は無関係に水素または式-COOR′′′の基を表し、その際、R′′′は水素または16〜30個の炭素原子を有するアルキル基を表す]のエチレン性不飽和エステル化合物1種以上 0〜80質量%、 d)コモノマー 0〜50質量%からなるオレフィン系不飽和モノマーの混合物を重合することにより得られ、その際、連鎖生長反応中にエチレン性不飽和モノマーの混合物を不連続的に変更して、そのブロックが少なくとも30のモノマー単位を有するブロックコポリマーが得られることを特徴とする、ブロックコポリマー。

IPC (16件)：

C08F297/08 , C10L 1/08 , C10L 1/18 , C10M145/14 , C10M145/16 , C10M147/02 , C10M149/02 , C10M149/06 , C10M149/08 , C10M149/10 , C10M151/02 , C10M153/02 , C10M155/02 , C10M155/04 , C10N 20:04 , C10N 30:02

FI (16件)：

C08F297/08 , C10L 1/08 , C10L 1/18 A , C10M145/14 , C10M145/16 , C10M147/02 , C10M149/02 , C10M149/06 , C10M149/08 , C10M149/10 , C10M151/02 , C10M153/02 , C10M155/02 , C10M155/04 , C10N 20:04 , C10N 30:02

Fターム (37件)：

4H013CC01 , 4H104CB08C , 4H104CB09C , 4H104CD01C , 4H104CE01C , 4H104CE03C , 4H104CE04C , 4H104CE05C , 4H104CG01C , 4H104CJ01C , 4H104CJ15C , 4H104EA03C , 4H104EB05 , 4H104EB07 , 4H104EB08 , 4H104EB09 , 4H104EB10 , 4H104EB13 , 4H104EB15 , 4H104LA01 , 4J026HA06 , 4J026HA11 , 4J026HA19 , 4J026HA28 , 4J026HA39 , 4J026HB11 , 4J026HB19 , 4J026HB28 , 4J026HB39 , 4J026HB45 , 4J026HC11 , 4J026HC19 , 4J026HC28 , 4J026HC39 , 4J026HC45 , 4J026HC47 , 4J026HE04

引用特許：

審査官引用 (5件)

ATRP法によって得られるコポリマー並びにその製造方法及び使用
公報種別：公表公報出願番号：特願2001-541086 出願人：ローマックスアディティヴスゲゼルシャフトミットベシュレンクテルハフツング
(メタ)アクリルモノマーの重合による新規な流動点降下剤
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-315372 出願人：エチル・コーポレーシヨン
コバルト連鎖移動方法により製造されたマクロモノマーから製造された星形ポリマー
公報種別：公表公報出願番号：特願平7-520560 出願人：イー・アイ・デュポン・ドゥ・ヌムール・アンド・カンパニー

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