特許

J-GLOBAL ID：200903027441154691

めっき液、めっき液を用いた構造体の製造方法、めっき液を用いた装置

発明者： 市原 滋 ,  田 透 ,  安居 伸浩
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (2件)： 西山 恵三 ,  内尾 裕一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-271466
公開番号（公開出願番号）：特開2005-226156
出願日： 2004年09月17日
公開日（公表日）： 2005年08月25日
要約：

【課題】 安定なFePtめっき液を提供することを目的とし、さらに、前記めっき液を用いて特性の良い、特に保磁力の高いFePt磁性体を電解めっき法にて提供することを目的とする。【解決手段】 本発明は、少なくとも、Feイオン、Ptイオン、錯化剤を含み、前記Feイオン濃度と前記Ptイオン濃度のモル比(Fe/Pt)が0.75≦Fe/Pt≦3であることを特徴とするめっき液を用いることによって、FePtをめっきする良好なめっき液を提供する。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

少なくとも、Feイオン、Ptイオン、錯化剤を含み、前記Feイオン濃度と前記Ptイオン濃度のモル比(Fe/Pt)が0.75≦Fe/Pt≦3であることを特徴とするめっき液。

IPC (4件)：

C25D3/56 ,  C25D5/50 ,  G11B5/64 ,  G11B5/858

FI (4件)：

C25D3/56 F ,  C25D5/50 ,  G11B5/64 ,  G11B5/858

Fターム (31件)：

4K023AB04 ,  4K023AB45 ,  4K023BA07 ,  4K023BA08 ,  4K023CA01 ,  4K023CB14 ,  4K023DA02 ,  4K023DA03 ,  4K023DA04 ,  4K023DA06 ,  4K023DA07 ,  4K023DA08 ,  4K024AA24 ,  4K024AB01 ,  4K024BA05 ,  4K024BA15 ,  4K024BB14 ,  4K024BB18 ,  4K024BC01 ,  4K024CA01 ,  4K024CA02 ,  4K024CA03 ,  4K024CA04 ,  4K024DB01 ,  4K024FA23 ,  4K024GA16 ,  5D006BB05 ,  5D006EA02 ,  5D112AA05 ,  5D112BB02 ,  5D112EE02

引用特許：

出願人引用 (3件)

• めっき液における金属析出促進化合物および該化合物を含むめっき液
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-377169   出願人：シップレーカンパニーエルエルシー
• ナノ構造体及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-276427   出願人：キヤノン株式会社
• 多孔質体及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-068511   出願人：キヤノン株式会社

審査官引用 (5件)

• 白金-タングステン合金めっき浴
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-248550   出願人：田中貴金属工業株式会社
• 特開平2-107794
  
• 特開昭52-108341
  
• 磁気記録媒体および磁気記録装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-280781   出願人：株式会社東芝
• 磁気記録媒体
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-012119   出願人：株式会社東芝

引用文献：

審査官引用 (1件)

• IEEE Transactions on Magnetics, 2003, Vol.39, No.5, pp.2699-2701