レジスト組成物、及び半導体装置の製造方法

発明者： , , , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：高田守 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-244161
公開番号（公開出願番号）：特開2002-055450
出願日： 2000年08月11日
公開日（公表日）： 2002年02月20日
要約：

【要約】【課題】 250nm以下の波長の遠紫外線、特にArFエキシマレーザー光に対する解像力がよく、さらに、優れたドライエッチング耐性を有するレジスト組成物を提供する。【解決手段】本発明のレジスト組成物は、下記化学式で表され、1分子中に2個以上のアダマンチル骨格を有する第1の化合物を少なくとも1種類と、ベース樹脂と、活性光線の照射により酸を発生する第2の化合物と、を含有する。【化4】(上記化学式中、X,Y,Zは下記のように表される。X:-(OCO)m-(CH2)n-(COO)m-(m=0,1 n=0,1,2,3 (但し、n=0のときm=0))Y,Z:H,OH,F,Cl,Br,R,COOR(Y=Zでもよく、YとZが同一のアダマンチル骨格に導入されてもよい。Rは、炭素数1から8の直鎖または分岐アルキル基を示す。))

請求項（抜粋）：

1分子中に2個以上のアダマンチル骨格を有する第1の化合物を少なくとも1種類と、ベース樹脂と、活性光線の照射により酸を発生する第2の化合物と、を含有することを特徴とするレジスト組成物。

IPC (14件)：

G03F 7/038 601 , C07C 35/37 , C08K 5/02 , C08K 5/09 , C08K 5/10 , C08K 5/17 , C08K 5/41 , C08L 33/02 , C08L 33/06 , C08L101/00 , G03F 7/004 501 , G03F 7/039 601 , H01L 21/027 , C07C 69/96

FI (14件)：

G03F 7/038 601 , C07C 35/37 , C08K 5/02 , C08K 5/09 , C08K 5/10 , C08K 5/17 , C08K 5/41 , C08L 33/02 , C08L 33/06 , C08L101/00 , G03F 7/004 501 , G03F 7/039 601 , C07C 69/96 Z , H01L 21/30 502 R

Fターム (43件)：

2H025AA02 , 2H025AA03 , 2H025AA04 , 2H025AA09 , 2H025AA14 , 2H025AC08 , 2H025AD01 , 2H025AD03 , 2H025BE00 , 2H025BE07 , 2H025BE10 , 2H025BG00 , 2H025CB13 , 2H025CB14 , 2H025CB41 , 2H025CC03 , 2H025CC04 , 2H025CC20 , 2H025FA01 , 2H025FA12 , 2H025FA41 , 4H006AA01 , 4H006AB76 , 4H006BJ30 , 4H006FC36 , 4H006FE12 , 4J002BG011 , 4J002BG041 , 4J002BG051 , 4J002CH052 , 4J002EB096 , 4J002EB108 , 4J002EF086 , 4J002EF106 , 4J002EH136 , 4J002EN027 , 4J002EN067 , 4J002EN138 , 4J002EQ038 , 4J002EU187 , 4J002EV298 , 4J002EW178 , 4J002FD312

引用特許：

審査官引用 (3件)

ポジ型感光性組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-311328 出願人：富士写真フイルム株式会社
フォトレジスト組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-074506 出願人：日本電気株式会社
環式オレフィン重合体および添加剤を含むフォトレジスト組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-065165 出願人：インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレ-ション

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