特許
J-GLOBAL ID:200903077891644971
フォトレジスト組成物
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
京本 直樹 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-074506
公開番号(公開出願番号):特開平9-265177
出願日: 1996年03月28日
公開日(公表日): 1997年10月07日
要約:
【要約】【課題】220nm以下の単波長で使用できるレジスト膜の解像性は十分なものではない。【解決手段】一般式(1)または(2)で表わされる化合物からなる溶解阻止剤と光酸発生剤とを含有させる。
請求項(抜粋):
下記の一般式(1)または(2)で表される化合物からなる溶解阻止剤と、光の照射により酸を発生する光酸発生剤とを含有することを特徴とするフォレジスト組成物。ただし、R1 ,R1 ′は、炭素数1〜12の一価の炭化水素基、R2 は炭素数1〜12の一価の炭化水素、R3 ,R3 ′は、独立して水素原子、炭素数1〜2の一価の炭化水素基、R4 ,R4 ′は、水素原子または炭素数1〜2の一価の炭化水素基。
IPC (4件):
G03F 7/004 501
, G03F 7/004 503
, G03F 7/039 501
, H01L 21/027
FI (4件):
G03F 7/004 501
, G03F 7/004 503
, G03F 7/039 501
, H01L 21/30 502 R
引用特許:
審査官引用 (12件)
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アルコキシアルキルエステル溶解抑制剤を含んでなる光画像形成性組成物
公報種別:公開公報
出願番号:特願平3-309070
出願人:ミネソタマイニングアンドマニユフアクチヤリングカンパニー
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特開平4-037760
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ポジ型レジスト材料
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-060986
出願人:日本電信電話株式会社
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ポジ型レジスト材料
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-060955
出願人:日本電信電話株式会社
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ポジ型レジスト材料
公報種別:公開公報
出願番号:特願平3-321540
出願人:日本電信電話株式会社, 信越化学工業株式会社
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特開平4-215662
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特開平4-158363
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特開平2-181151
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特開平2-181150
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特開平2-177031
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特開平1-300250
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感光性樹脂組成物およびパターン形成方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-334643
出願人:日本電気株式会社
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