フォトレジスト組成物

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：京本直樹 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-074506
公開番号（公開出願番号）：特開平9-265177
出願日： 1996年03月28日
公開日（公表日）： 1997年10月07日
要約：

【要約】【課題】220nm以下の単波長で使用できるレジスト膜の解像性は十分なものではない。【解決手段】一般式(1)または(2)で表わされる化合物からなる溶解阻止剤と光酸発生剤とを含有させる。

請求項（抜粋）：

下記の一般式(1)または(2)で表される化合物からなる溶解阻止剤と、光の照射により酸を発生する光酸発生剤とを含有することを特徴とするフォレジスト組成物。ただし、R1 ,R1 ′は、炭素数1〜12の一価の炭化水素基、R2 は炭素数1〜12の一価の炭化水素、R3 ,R3 ′は、独立して水素原子、炭素数1〜2の一価の炭化水素基、R4 ,R4 ′は、水素原子または炭素数1〜2の一価の炭化水素基。

IPC (4件)：

G03F 7/004 501 , G03F 7/004 503 , G03F 7/039 501 , H01L 21/027

FI (4件)：

G03F 7/004 501 , G03F 7/004 503 , G03F 7/039 501 , H01L 21/30 502 R

引用特許：

審査官引用 (13件)

アルコキシアルキルエステル溶解抑制剤を含んでなる光画像形成性組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-309070 出願人：ミネソタマイニングアンドマニユフアクチヤリングカンパニー
特開平4-037760
特開平4-037760

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