特許
J-GLOBAL ID:200903084818847240
環式オレフィン重合体および添加剤を含むフォトレジスト組成物
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
坂口 博 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-065165
公開番号(公開出願番号):特開2000-298350
出願日: 2000年03月09日
公開日(公表日): 2000年10月24日
要約:
【要約】【課題】 193nmの放射で結像可能であり、現像によって解像度が高く耐エッチング性が高いフォトレジスト構造を形成することのできる、酸を触媒とするフォトレジスト組成物を提供する。【解決手段】 このフォトレジスト組成物は、環状オレフィン重合体と、感光性酸発生剤と、実質的に透明な、かさの大きい疎水性添加剤との組合せよりなる。環状オレフィン重合体は、i)アルカリ水溶液中における溶解を促進する、極性官能基を有する環状オレフィン単位と、ii)アルカリ水溶液中における溶解を阻止する、酸に不安定な基を有する環状オレフィン単位とを含有する。疎水性添加剤は、飽和ステロイド化合物、非ステロイド脂環式化合物、及び、酸に不安定な結合を有する非ステロイド多脂環式化合物からなる群から選択される。
請求項(抜粋):
(a)環式オレフィン重合体と、(b)感光性酸発生剤と、(c)実質的に透明な、かさの大きい疎水性添加剤とを含む、フォトレジスト組成物。
IPC (9件):
G03F 7/039 601
, C08F232/00
, C08K 5/00
, C08L 45/00
, G03F 7/004 501
, G03F 7/11 503
, G03F 7/38 511
, G03F 7/40 521
, H01L 21/027
FI (9件):
G03F 7/039 601
, C08F232/00
, C08K 5/00
, C08L 45/00
, G03F 7/004 501
, G03F 7/11 503
, G03F 7/38 511
, G03F 7/40 521
, H01L 21/30 502 R
引用特許:
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