環式オレフィン重合体および添加剤を含むフォトレジスト組成物

発明者： , , , , , , , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：坂口博 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-065165
公開番号（公開出願番号）：特開2000-298350
出願日： 2000年03月09日
公開日（公表日）： 2000年10月24日
要約：

【要約】【課題】 193nmの放射で結像可能であり、現像によって解像度が高く耐エッチング性が高いフォトレジスト構造を形成することのできる、酸を触媒とするフォトレジスト組成物を提供する。【解決手段】このフォトレジスト組成物は、環状オレフィン重合体と、感光性酸発生剤と、実質的に透明な、かさの大きい疎水性添加剤との組合せよりなる。環状オレフィン重合体は、i)アルカリ水溶液中における溶解を促進する、極性官能基を有する環状オレフィン単位と、ii)アルカリ水溶液中における溶解を阻止する、酸に不安定な基を有する環状オレフィン単位とを含有する。疎水性添加剤は、飽和ステロイド化合物、非ステロイド脂環式化合物、及び、酸に不安定な結合を有する非ステロイド多脂環式化合物からなる群から選択される。

請求項（抜粋）：

(a)環式オレフィン重合体と、(b)感光性酸発生剤と、(c)実質的に透明な、かさの大きい疎水性添加剤とを含む、フォトレジスト組成物。

IPC (9件)：

G03F 7/039 601 , C08F232/00 , C08K 5/00 , C08L 45/00 , G03F 7/004 501 , G03F 7/11 503 , G03F 7/38 511 , G03F 7/40 521 , H01L 21/027

FI (9件)：

G03F 7/039 601 , C08F232/00 , C08K 5/00 , C08L 45/00 , G03F 7/004 501 , G03F 7/11 503 , G03F 7/38 511 , G03F 7/40 521 , H01L 21/30 502 R

引用特許：

出願人引用 (6件)

デバイスの製造方法及びレジスト材料
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-057221 出願人：ルーセントテクノロジーズインコーポレイテッド
感放射線性樹脂組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-352621 出願人：ジェイエスアール株式会社
遠紫外線露光用フォトレジスト組成物およびその使用方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-128606 出願人：インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション

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審査官引用 (6件)

デバイスの製造方法及びレジスト材料
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-057221 出願人：ルーセントテクノロジーズインコーポレイテッド
感放射線性樹脂組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-352621 出願人：ジェイエスアール株式会社
遠紫外線露光用フォトレジスト組成物およびその使用方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-128606 出願人：インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション

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