サセプタおよび表面処理方法

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：深見久郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-002081
公開番号（公開出願番号）：特開2001-338878
出願日： 2001年01月10日
公開日（公表日）： 2001年12月07日
要約：

【要約】【課題】薄膜生成装置の真空チャンバ内に液晶基板の台座として設けられるサセプタを提供することを主要な目的とする。【解決手段】サセプタ1は、サセプタ本体2と、サセプタ本体2の上に設けられ、基板4よりも一回り小さいサイズで形成され、基板4を下から支える段差部3を備える。段差部3を設けることにより、基板4の端面に形成された膜5と、基板の周辺の回り込み部分に形成された膜6との導通を回避する。

請求項（抜粋）：

薄膜生成装置の真空チャンバ内に基板の台座として設けられるサセプタであって、サセプタ本体と、前記サセプタ本体の上に設けられ、前記基板よりも一回り小さいサイズで形成され、前記基板を下から支える段差部と、を備えるサセプタ。

IPC (3件)：

H01L 21/203 , C23C 14/50 , C23C 16/458

FI (3件)：

H01L 21/203 S , C23C 14/50 D , C23C 16/458

Fターム (9件)：

4K029JA01 , 4K030GA02 , 4K030KA46 , 5F103AA08 , 5F103BB34 , 5F103DD28 , 5F103LL13 , 5F103PP11 , 5F103RR10

引用特許：

審査官引用 (7件)

特開昭61-201419
特開平1-142080
特開昭61-201419

全件表示

前のページに戻る