特許

J-GLOBAL ID：200903027669302232

モジュール式基板測定システム

発明者： アブラハム,ミヒヤエル ,  ラーイーマケルス,イボ・ジエイ・エム・エム ,  ゴードン,アラン ,  アステニヨ,ピエール
出願人/特許権者： ナノフオトニクス・アクチエンゲゼルシヤフト ,  レシフ・ソシエテ・アノニム
代理人 (1件)： 小田島 平吉
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-577588
公開番号（公開出願番号）：特表2003-531488
出願日： 2001年04月12日
公開日（公表日）： 2003年10月21日
要約：

【要約】基板測定システムは、測定室(30)、及び基板容器(8)を受け入れるように配列された基板移送手段(10)と基板容器インターフェース(1)とを有する基板操作室を備え、操作室(7)は測定室(30)を連結するための第1のインターフェース(50)を有し、測定室(30)は操作室(7)に連結するための第2のインターフェース(51)を有し、更に移送手段(10)は容器(8)と測定室(30)との間を操作室(7)を通して基板を移送するように配列されており、このシステムには、第1の測定室(30)と置換するために、この測定室(30)と同じ第2の測定室(51)を有する第2の測定室(39)が設けられる。

請求項（抜粋）：

第1の測定室(30)、及び基板移送手段(10)と基板容器(8)を受け入れるための基板容器インターフェース(1)とを有する基板操作室(7)を備え、前記基板操作室(7)は第1の測定室と連結するための第1の機械式インターフェース(50)が設けられ、前記第1の測定室は測定装置を備えかつ前記基板操作室(7)に連結するために第2の機械式インターフェース(51)が設けられ、そして前記基板移送手段(10)が、基板を、前記基板容器(8)と前記第1の測定室(30)との間を前記基板操作室(7)を経て移送するように配置されている基板測定システムの組立体であって、 第2の測定室(39)が設けられ、これが前記第1の測定室(30)と同じ寸法内に適合し、そして前記第1の測定室(30)と置換するために前記第1の測定室(30)と同一の第2の機械式インターフェース(51)が設けられることを特徴とする基板測定システムの組立体。

IPC (4件)：

H01L 21/02 ,  H01L 21/66 ,  H01L 21/68 ,  B65G 1/00 535

FI (6件)：

H01L 21/02 Z ,  H01L 21/66 P ,  H01L 21/68 A ,  H01L 21/68 L ,  H01L 21/68 T ,  B65G 1/00 535

Fターム (36件)：

3F022AA08 ,  3F022BB10 ,  3F022CC02 ,  3F022EE05 ,  3F022FF33 ,  4M106AA01 ,  4M106CA48 ,  4M106DJ40 ,  5F031CA02 ,  5F031DA08 ,  5F031DA17 ,  5F031EA14 ,  5F031FA01 ,  5F031FA03 ,  5F031FA11 ,  5F031FA12 ,  5F031FA14 ,  5F031GA43 ,  5F031GA47 ,  5F031GA48 ,  5F031GA49 ,  5F031GA54 ,  5F031JA13 ,  5F031JA14 ,  5F031JA17 ,  5F031JA23 ,  5F031MA02 ,  5F031MA03 ,  5F031MA04 ,  5F031MA07 ,  5F031MA09 ,  5F031MA33 ,  5F031NA02 ,  5F031NA04 ,  5F031NA05 ,  5F031NA07

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-231918   出願人：東京エレクトロン株式会社
• 微粒子検出方法および装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-352002   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
• 半導体生産方法及びそのシステム
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-054298   出願人：株式会社日立製作所