電子デバイスおよびその製造方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：志賀正武 , 高橋詔男 , 渡邊隆 , 青山正和
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-376276
公開番号（公開出願番号）：特開2006-185674
出願日： 2004年12月27日
公開日（公表日）： 2006年07月13日
要約：

【課題】導電性高分子を用いた透明導電膜の導電性および光透過率が良好であり、しかも低コスト化が可能な電子デバイスを提供する。【解決手段】基材1上に、導電性高分子およびラジカル重合開始剤を含む透明導電膜2を備え、透明導電膜2が、第1の領域21と、第1の領域21に隣接し第1の領域21より電気抵抗値が高い第2の領域22とを有する透明導電回路基板11。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

基材上に、導電性高分子およびラジカル重合開始剤を含む透明導電膜を備え、この透明導電膜は、第1の領域と、この第1の領域に隣接し第1の領域より電気抵抗値が高い第2の領域とを有することを特徴とする電子デバイス。

IPC (2件)：

H01B 5/14 , H01B 13/00

FI (4件)：

H01B5/14 A , H01B5/14 B , H01B13/00 503B , H01B13/00 503D

Fターム (13件)：

3K007AB18 , 3K007CC00 , 3K007DB03 , 3K007FA02 , 5B087AA04 , 5B087BC33 , 5B087CC36 , 5G307FA02 , 5G307FB03 , 5G307FC09 , 5G323BA05 , 5G323BB01 , 5G323CA05

引用特許：

出願人引用 (1件)

透明タッチパネル
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-018343 出願人：株式会社フジクラ

審査官引用 (4件)

半導体装置とその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2003-122312 出願人：シャープ株式会社
薄膜のパターニング方法、有機エレクトロルミネッセンス装置、回路基板及び電子機器
公報種別：公開公報出願番号：特願2002-136242 出願人：セイコーエプソン株式会社
基板表面に導電性重合体のパターンを製造する方法およびかかるパターンを金属化する方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-035949 出願人：フィリップスエレクトロニクスネムローゼフェンノートシャップ

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