特許
J-GLOBAL ID：200903028099406094

レジスト組成物

発明者：
曽根 篤

曽根 篤 について


出願人/特許権者：
日本ゼオン株式会社

日本ゼオン株式会社 について


代理人 (1件)： 浅村 皓 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-023499
公開番号（公開出願番号）：特開平11-218927
出願日： 1998年02月04日
公開日（公表日）： 1999年08月10日
要約：
【要約】【課題】 ArFエキシマレーザーに対して高い透明性を有し、かつ耐ドライエッチング耐性に優れ、ストライエーション改良効果によって安定して優れたパターン形状を与えるレジスト組成物を提供する。【解決手段】 酸発生剤、界面活性剤および前記酸発生剤により脱離する基として脂環式炭化水素基を有する構造単位を含むポリマーからなるレジスト組成物である。
請求項（抜粋）：
酸と反応して脱離する脂環式炭化水素基を含有する構造単位を含むポリマー、酸発生剤および界面活性剤を含有することを特徴とするレジスト組成物。
IPC (4件)：
G03F 7/039 601 ,  G03F 7/004 504 ,  G03F 7/20 502 ,  H01L 21/027
FI (4件)：
G03F 7/039 601 ,  G03F 7/004 504 ,  G03F 7/20 502 ,  H01L 21/30 502 R
引用特許：
審査官引用 (4件)
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