特許
J-GLOBAL ID:200903028112808148
ポジ型フォトレジスト組成物
発明者:
,
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
萩野 平 (外3名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平7-125194
公開番号(公開出願番号):特開平8-320558
出願日: 1995年05月24日
公開日(公表日): 1996年12月03日
要約:
【要約】【目的】 高解像力でかつ解像力の膜厚依存性が小さい、現像ラチチュードが広く、現像残渣が発生しにくく、経時による感光剤の析出やミクロゲルの発生がない(パーティクルの増加のない)極めて優れた保存安定性を有することである。【構成】 アルカリ可溶性樹脂、及び直鎖状に芳香環を5つ有しそれぞれの芳香環に水酸基を1個有し両末端の1つ内側の芳香環上の水酸基の5位に置換基を有する特定構造のポリヒドロキシ化合物の1,2-ナフトキノンジアジド-5-(および/または-4-)スルフォン酸エステルを含有する。
請求項(抜粋):
アルカリ可溶性樹脂および下記一般式〔I〕あるいは一般式〔II〕で表わされるポリヒドロキシ化合物の1,2-ナフトキノンジアジド-5-(および/または-4-)スルフォン酸エステルを少なくとも1種を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。【化1】ここで、R1 、R2 、R1 ′、R2 ′;同一でも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アシル基、シクロアルキル基、R3 、R4 、R3 ′、R4 ′;同一でも異なっていてもよく、アルキル基、ハロゲン原子R5 、R6 、R5 ′、R6 ′;同一でも異なっていてもよく、水素原子、アルキル基、アルコキシ基R7 、R8 、R7 ′、R8 ′;同一でも異なっていてもよく、アルキル基、アルコキシ基、アルケニル基、シクロアルキル基R9 、R10、R9 ′、R10′;同一でも異なっていてもよく、水素原子、アルキル基、R11、R11′;シクロアルキル基k〜n;0〜3の整数を表わす。
IPC (2件):
G03F 7/023 501
, H01L 21/027
FI (2件):
G03F 7/023 501
, H01L 21/30 502 R
引用特許:
出願人引用 (6件)
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ポジ型レジスト組成物
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-346400
出願人:住友化学工業株式会社
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特開昭59-121043
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特開平3-058049
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ポジ型レジスト組成物
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-312269
出願人:住友化学工業株式会社
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ポジ型レジスト組成物
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-223634
出願人:住友化学工業株式会社
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特開昭61-248055
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審査官引用 (6件)
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ポジ型レジスト組成物
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-346400
出願人:住友化学工業株式会社
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特開昭59-121043
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特開平3-058049
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ポジ型レジスト組成物
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-312269
出願人:住友化学工業株式会社
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ポジ型レジスト組成物
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-223634
出願人:住友化学工業株式会社
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特開昭61-248055
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