ポジ型フォトレジスト組成物

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：萩野平 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-125194
公開番号（公開出願番号）：特開平8-320558
出願日： 1995年05月24日
公開日（公表日）： 1996年12月03日
要約：

【要約】【目的】高解像力でかつ解像力の膜厚依存性が小さい、現像ラチチュードが広く、現像残渣が発生しにくく、経時による感光剤の析出やミクロゲルの発生がない(パーティクルの増加のない)極めて優れた保存安定性を有することである。【構成】アルカリ可溶性樹脂、及び直鎖状に芳香環を5つ有しそれぞれの芳香環に水酸基を1個有し両末端の1つ内側の芳香環上の水酸基の5位に置換基を有する特定構造のポリヒドロキシ化合物の1,2-ナフトキノンジアジド-5-(および/または-4-)スルフォン酸エステルを含有する。

請求項（抜粋）：

アルカリ可溶性樹脂および下記一般式〔I〕あるいは一般式〔II〕で表わされるポリヒドロキシ化合物の1,2-ナフトキノンジアジド-5-(および/または-4-)スルフォン酸エステルを少なくとも1種を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。【化1】ここで、R1 、R2 、R1 ′、R2 ′;同一でも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アシル基、シクロアルキル基、R3 、R4 、R3 ′、R4 ′;同一でも異なっていてもよく、アルキル基、ハロゲン原子R5 、R6 、R5 ′、R6 ′;同一でも異なっていてもよく、水素原子、アルキル基、アルコキシ基R7 、R8 、R7 ′、R8 ′;同一でも異なっていてもよく、アルキル基、アルコキシ基、アルケニル基、シクロアルキル基R9 、R10、R9 ′、R10′;同一でも異なっていてもよく、水素原子、アルキル基、R11、R11′;シクロアルキル基k〜n;0〜3の整数を表わす。

IPC (2件)：

G03F 7/023 501 , H01L 21/027

FI (2件)：

G03F 7/023 501 , H01L 21/30 502 R

引用特許：

出願人引用 (6件)

ポジ型レジスト組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-346400 出願人：住友化学工業株式会社
特開昭59-121043
特開平3-058049

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審査官引用 (6件)

ポジ型レジスト組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-346400 出願人：住友化学工業株式会社
特開昭59-121043
特開平3-058049

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