特許
J-GLOBAL ID：200903028162537374
感放射線性樹脂組成物
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大島 正孝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-086093
公開番号（公開出願番号）：特開平9-274318
出願日： 1996年04月09日
公開日（公表日）： 1997年10月21日
要約：
【要約】【課題】 活性光線、例えば、アルゴンフルオライドエキシマレーザー光の照射で発生した酸の作用でアルカリ現像液に対する溶解性が向上する原理を応用した、いわゆる化学増幅系のフォトレジストにおいて、組成物膜における透過性のコントロールを十分行うことができ、定在波およびハレーションの低減が大きく、現像液、パターン形状などの良好な、なおかつ十分なドライエッチング耐性を有する感放射線性樹脂組成物を提供すること。【解決手段】 (A)酸の作用により保護基を脱離してアルカリ可溶性となる樹脂、(B)感放射線性酸発生剤および(C)(イ)親水性官能基を有し且つ炭素数5以上25以下のアリサイクリック系低分子化合物および(ロ)炭素数10以上40以下のナフタレン系低分子化合物よりなる群から選ばれる少なくとも1種の化合物を含有する感放射線性樹脂組成物。
請求項（抜粋）：
(A)酸の作用により保護基を脱離してアルカリ可溶性となる樹脂、(B)感放射線性酸発生剤および(C)(イ)親水性官能基を有し且つ炭素数5以上25以下のアリサイクリック系低分子化合物および(ロ)炭素数10以上40以下のナフタレン系低分子化合物よりなる群から選ばれる少なくとも1種の化合物を含有することを特徴とする感放射線性樹脂組成物。
IPC (5件)：
G03F 7/039 501
, C08F 2/46 MDN
, G03F 7/004 503
, G03F 7/033
, H01L 21/027
G03F 7/039 501
, C08F 2/46 MDN
, G03F 7/004 503
, G03F 7/033
, H01L 21/30 502 R
