特許
J-GLOBAL ID：200903028168953345
露光装置およびデバイス製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
西山 恵三 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-367223
公開番号（公開出願番号）：特開2000-187338
出願日： 1998年12月24日
公開日（公表日）： 2000年07月04日
要約：
【要約】【課題】 ステージの移動範囲が大きくなっても、ステージに搭載する位置計測機構を小型軽量化する。【解決手段】 本発明の露光装置は、パターンを形成したレチクルに照射された露光光をウエハに投影するための投影光学系と、該ウエハまたは該レチクルを保持し位置決めを行うステージと、アライメント光を照射するアライメント光学系と、該ステージに設けられた反射鏡と、該反射鏡に計測光を照射して該ステージの位置を計測する干渉計とを有し、該ステージの所定方向の位置計測を行う複数の該干渉計が設けられ、該投影光学系に対して該ステージを位置決めする場合とアライメント光学系に対して該ステージを位置決めする場合の該所定方向のステージの位置計測に用いられる干渉計はそれぞれ別の干渉計であることを特徴とする。これにより、反射鏡の長さを短くすることができ、ステージの小型化・軽量化を図ることができる。
請求項（抜粋）：
パターンを形成したレチクルに照射された露光光をウエハに投影するための投影光学系と、該ウエハまたは該レチクルを保持し位置決めを行うステージと、アライメント光を照射するアライメント光学系と、該ステージの位置を計測するステージ位置計測機構とを有し、該ステージ位置計測機構は、該ステージに設けられた計測補助器と、該計測補助器の計測を行う計測器とを備えており、該ステージの所定方向の位置計測を行う複数の該計測器が設けられ、該投影光学系に対して該ステージを位置決めする場合とアライメント光学系に対して該ステージを位置決めする場合の該所定方向のステージの位置計測に用いられる計測器は、それぞれ別の計測器であることを特徴とする露光装置。
IPC (2件)：
FI (3件)：
G03F 9/00 H
, H01L 21/30 503 A
, H01L 21/30 516 B
5F046BA03
, 5F046CC01
, 5F046CC02
, 5F046CC03
, 5F046CC05
, 5F046CC06
, 5F046CC16
, 5F046CC18
, 5F046DA07
, 5F046DB05
, 5F046DB10
, 5F046DC04
, 5F046DC10
, 5F046FA03
