特許
J-GLOBAL ID：200903028267485833

無機・有機ハイブリット材料とその製造方法

発明者：
相徳 孝志

相徳 孝志 について


出願人/特許権者：
日本電気硝子株式会社

日本電気硝子株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-391091
公開番号（公開出願番号）：特開2003-183399
出願日： 2001年12月25日
公開日（公表日）： 2003年07月03日
要約：
【要約】【目的】 無色透明であり、しかも、乾燥工程でクラックが発生しにくい無機・有機ハイブリット材料と、その製造方法を提供することにある。【構成】 本発明の無機・有機ハイブリット材料は、オルガノアルコキシシランの重合体と、末端シラノール型ジアルキルシロキサンと水との反応により得られる無機・有機ハイブリット材料であって、可視域の平均透過率が厚さ2mmで85%以上であることを特徴とする。
請求項（抜粋）：
オルガノアルコキシシランの重合体と、末端シラノール型ジアルキルシロキサンと水との反応により得られる無機・有機ハイブリット材料であって、可視域の平均透過率が厚さ2mmで85%以上であることを特徴とする無機・有機ハイブリット材料。
IPC (2件)：
C08G 77/44 ,  C08L 83/10
FI (2件)：
C08G 77/44 ,  C08L 83/10
Fターム (8件)：
4J002CP051 ,  4J002EX046 ,  4J035BA02 ,  4J035GA01 ,  4J035GB03 ,  4J035GB04 ,  4J035LA08 ,  4J035LB01
引用特許：
審査官引用 (14件)
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