特許
J-GLOBAL ID：200903028303231061

画像形成装置及びプロセスカートリッジ

発明者：
渡邊 一彦

渡邊 一彦 について

, 
赤藤 昌彦

赤藤 昌彦 について

, 
成瀬 修

成瀬 修 について

, 
矢野 英俊

矢野 英俊 について


出願人/特許権者：
株式会社リコー

株式会社リコー について


代理人 (2件)： 五十嵐 和壽 ,  佐田 守雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-007178
公開番号（公開出願番号）：特開2005-202065
出願日： 2004年01月14日
公開日（公表日）： 2005年07月28日
要約：
【課題】 放電から感光体など被帯電体の劣化を防ぐために、少なくとも被帯電体表面の放電領域に保護物質を供給する場合に、過剰な保護物質の供給を防止しつつ、保護物質を小粒径化し、十分に引き伸ばすことによって、被帯電体表面を十分に覆うことができ、必要最少限の保護物質の供給量での被帯電体保護と均一塗布ができる画像形成装置及びプロセスカートリッジを提供すること。【解決手段】 画像形成装置において、被帯電体(1)の移動方向に対して、保護物質塗布手段9の下流、帯電装置2の上流に、保護物質塗布手段によって塗布された保護物質の粒径をさらに小粒径化し、均一に引き伸ばすための塗布補助手段10が配置されていることを特徴とする。【選択図】 図6
請求項（抜粋）：
少なくとも、移動する被帯電体と、現像装置とを有し、さらに交流成分を含む電圧を印加する帯電装置によって形成される放電領域の被帯電体表面に保護物質を塗布する保護物質塗布手段が被帯電体に接触または近接して対向配置されている画像形成装置において、被帯電体の移動方向に対して、保護物質塗布手段の下流、帯電装置の上流に、保護物質塗布手段によって塗布された保護物質の粒径をさらに小粒径化し、均一に引き伸ばすための塗布補助手段が配置されていることを特徴とする画像形成装置。
IPC (1件)：
G03G21/00
FI (1件)：
G03G21/00
Fターム (8件)：
2H134GA01 ,  2H134GB02 ,  2H134HD01 ,  2H134KG01 ,  2H134KH06 ,  2H134KH15 ,  2H134LA01 ,  2H134LA02
引用特許：
出願人引用 (14件)
全件表示
審査官引用 (8件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM