特許
J-GLOBAL ID：200903028445690829

電子ビーム露光装置及び該装置を用いたデバイス製造方法

発明者：
村木 真人

村木 真人 について


出願人/特許権者：
キヤノン株式会社

キヤノン株式会社 について


代理人 (1件)： 丸島 儀一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-005441
公開番号（公開出願番号）：特開平10-208996
出願日： 1997年01月16日
公開日（公表日）： 1998年08月07日
要約：
【要約】【課題】 強度ばらつきのない複数の電子ビームで露光が行えるマルチ電子ビーム型露光装置を提供する。【解決手段】 電子ビームを放射する光源を用いて第1物体を照明し、前記第1物体からの電子ビームで第2物体を露光する電子ビーム露光装置において、前記光源からの電子ビームを前記第1物体に照射する照明電子光学系と、複数の開口を有し、各開口を通過する電子ビームの電流が略一致するように各開口の開口面積が設定されている前記第1物体と、前記複数の開口を通過する電子ビームのそれぞれから前記光源の中間像を形成する各開口に対応した複数の電子光学系と、前記複数の中間像を前記第2物体に投影する縮小電子光学系とを有する。
請求項（抜粋）：
電子ビームを放射する光源を用いて第1物体を照明し、前記第1物体からの電子ビームで第2物体を露光する電子ビーム露光装置において、前記光源からの電子ビームを前記第1物体に照射する照明電子光学系と、複数の開口を有し、各開口を通過する電子ビームの電流が略一致するように各開口の開口面積が設定されている前記第1物体と、前記複数の開口を通過する電子ビームのそれぞれから前記光源の中間像を形成する為の各開口に対応した複数の電子光学系と、前記複数の中間像を前記第2物体に投影する縮小電子光学系とを有することを特徴とする電子ビーム露光装置装置。
IPC (2件)：
H01L 21/027 ,  G03F 7/20 504
FI (3件)：
H01L 21/30 541 R ,  G03F 7/20 504 ,  H01L 21/30 541 W
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (5件)
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